中古 RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu #293664998 を販売中

RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu
ID: 293664998
ヴィンテージ: 2001
Film thickness measurement system 2001 vintage.
RUDOLPHメタパルス 200X-Cuウェハテストおよび計測機器は、RUDOLPH Technologiesの精密計測ソリューションの最新製品です。このシステムは、ウェーハおよび基板の表面プロファイルおよび重要寸法に対して業界最高レベルの精度と信頼性を提供します。RUDOLPH METAPULSE 200XCUは、幅広い重要寸法および表面プロファイルを迅速かつ効率的に評価できるように設計されています。このユニットは、1064nm波長レーザプロファイル干渉計を使用しており、高性能の集積回路の最高の機能を正確に測定できます。サブアングストローム精度で測定することができ、ナノメートルレベルでも正確な結果が得られます。このツールはまた、複雑な表面フィーチャーからプロファイル画像を再構築し、ウェーハの表面プロファイルの3Dスキャンを生成することができる強力なイメージングアルゴリズムを備えています。これにより、より高い精度と再現性でデバイス全体の均一性と一貫性を確保できます。さらに、アセットの感度は調整可能で、さまざまな種類の表面プロファイルやパターンに汎用性があります。METAPULSE 200X CUは、複数の角度からウェーハ構造をテストするためのさまざまな洗練された診断機能を提供します。パラメータ化、イメージング、データ解析、信号検証などの複数の重要な測定を単一の機器に統合し、迅速な診断分析を可能にする、今日利用可能な唯一の計測モデルです。このシステムは、ウェーハ表面におけるプロセス条件、化学物質または電極誘導効果の影響を監視するのにも同様に適しています。また、あらゆる材料の表面粗さ、粒子汚染、層接着を測定することができ、研究と製造の両方において非常に貴重なツールです。METAPULSE 200 X CUは、量子カスケードレーザー、MEMS、および高度な高性能CMOSプロセス開発に不可欠な選択肢です。これは信頼性の高い正確な計測ユニットであり、製造メーカーが新しいデバイスの歩留まりを最大化し、コストと市場投入までの時間を削減するのに役立つ重要なデータを提供します。
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