中古 RUDOLPH MetaPulse 200 #293766451 を販売中

RUDOLPH MetaPulse 200
ID: 293766451
Film thickness measurement system.
RUDOLPH MetaPulse 200 Wafer Testing and Metrology Equipmentは、半導体ウェーハおよびその他の関連基板の試験および計測アプリケーション用に特別に設計された自動システムです。このユニットは、高解像度のイメージングと人工構造物のテストと分析のためのステージスキャン機を提供しています。ダイの両側をスキャンすることができ、ダイ・レベル計測プロセスや欠陥レビューなど、さまざまなアプリケーションに適しています。このツールは、半導体やその他の基板の上面と底面の両方の高解像度イメージングを実行するために、ダイレクトイメージング技術と組み合わせて高解像度の光学技術を利用しています。画像は25nmの解像度で作成でき、アセットは特定のアプリケーションに応じてさまざまな調整可能なパラメータを備えています。また、ステージスキャン装置も自動化されており、ユーザーは1つの場所でダイまたは複数のダイの全領域をスキャンすることができます。このスキャンシステムにより、大面積を短時間で高精度かつ高速にレビューできます。このユニットには、さまざまなデータ収集ハードウェアとソフトウェアが装備されており、ユーザーは複数のテストの結果を分析して比較することができます。また、複数の解析スイートが付属しており、臨界寸法(CD)測定、エッジしきい値測定、粒度測定、統計分析などのダイレベルおよび欠陥関連パラメータを分析できます。RUDOLPH META PULSE 200はまた、ユーザーが簡単に外部システムやデータベースに接続できるように、さまざまなインターフェイスオプションを提供しています。このツールは、コンピュータやオペレーティングシステムの広い範囲と互換性があり、ほぼすべての既存のインフラストラクチャとの互換性を可能にします。このアセットでは、さまざまな自動データのインポート/エクスポート形式もサポートされているため、結果を他のユーザーと簡単に保存、分析、共有できます。全体として、MetaPulse 200ウェーハテストおよび計測モデルは、高速で正確で信頼性の高いデータテストを提供するように設計された完全な機器です。自動ステージスキャン技術に加えて、高度なデータ分析オプションも多数用意されているため、ユーザーは迅速に結果を確認し、さまざまなアプリケーションで正確なプロセス制御を実現できます。
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