中古 NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT Q7 #293763617 を販売中

NANOMETRICS/BIO-RAD/ACCENT Q7は、フォトマスクやウェーハの検査に使用される最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高解像度のイメージングと自動検査機能を組み合わせて、欠陥を検出するための最高レベルの精度と精度を提供します。このユニットには、高度な光学およびイメージングシステム、および自動画像プリプロセスおよび欠陥検出アルゴリズムが装備されています。この機械は、従来のシステムよりも最大10X高速の検査速度を達成することができ、全体的な検査および品質管理プロセスを改善しながら、全体的な所有コストを削減するように設計されています。ACENT Q7は、特許取得済みのナノメートルイメージング技術を使用して、マスクまたはウェーハ内の領域の超高解像度の画像を取得します。このイメージング技術は、サブミクロンのパターンを検出することができ、高精度で信頼性の高い検査を提供します。さらに、このツールは高度な光学およびイメージングシステムを使用して、信頼性の高い高解像度イメージングを保証します。さらに、自動前処理機能を搭載し、不具合を迅速に修正し、後処理時間を短縮します。BIO-RAD Q7には、欠陥を迅速かつ正確に検出および分類するためのインテリジェントな画像処理アルゴリズムも含まれています。これらのアルゴリズムは、ナノサイズか肉眼で見えるかにかかわらず、欠陥を最小限の時間で正確に分離し分類するために最適化されています。さらに、システムには高度な欠陥登録機能が装備されており、検出された欠陥に一意の識別子と場所を割り当てることができます。これは、プロセスフローの検出と修正を容易にするために、識別された欠陥の詳細なレポートを作成するために非常に便利です。Q7には、自動レビュー、欠陥分類、是正措置などの高度な自動化機能も含まれています。この単位は十分にプログラム可能で、特定の顧客の要求を満たすように形成することができます。さらに、このマシンにはキャリブレーションモードとフォルトアイソレーション機能が含まれており、ツール内で発生する障害や問題をすばやく検出できます。最後に、異なるマスクに複数の検査を並行して実行するアセットの能力は、モデルのスループットと信頼性をさらに高めます。結論として、NANOMETRICS Q7は、あらゆる種類のナノメトリック欠陥を迅速かつ正確に検出および分類し、発見された欠陥の詳細なレポートを提供することができます。高度な画像前処理、欠陥検出および補正アルゴリズム、オートメーション機能により、高精度マスクおよびウェーハ検査に最適です。