中古 KLA / TENCOR XP-2 #9392647 を販売中

KLA/TENCOR XP-2は、半導体の製造ラインで使用されるウェーハ試験および計測機器で、品質保証と歩留まり向上を実現します。300mmウェーハの高速で包括的な非破壊ウェーハ測定用に設計されています。KLA XP-2システムは、光学測定やプロファイル非接触計測などの幅広いウェーハ表面スキャン技術を使用して、信頼性の高いウェーハ測定を迅速かつ正確に生成します。光学式スキャンアームは、エッジ忠実度、表面地形、平坦度、ノコギリ欠陥、線幅または空間幅、重大寸法誤差、およびウエハーパラメータに関連するその他の要因をキャプチャするために、高速で定量的な明るいフィールドまたは暗いフィールド画像を生成するために使用されます。データは、詳細な3Dモデルに変換して分析することができます。光学システムに加えて、TENCOR XP-2は臨界次元チャネル・ステーションや線幅、エッジ・プロファイル・ステーションなどの高度な計測機能を備えています。これらの計測ツールは、正確なエアベアリングスキャンを使用して、重要な寸法または線の幅とエッジのプロファイルを迅速かつ正確に測定します。このモデルには、粒子欠陥、結晶欠陥、およびその他の表面の不整合を検出するために使用できる高度な欠陥検査機能も装備されています。粒子欠陥検査ユニットは、ウェーハ表面の粒子欠陥を正確に検出し識別するために、高スループットで非常に高解像度の欠陥画像を生成するように設計されています。さらに、XP-2には幅広いプロセス、テスト、および歩留まり解析ツールが装備されています。ウェーハの処理時間、ウェーハドッピング、ローディングエラー、ウェーハあたりの歩留まり損失などの重要なパラメータを正確に測定できます。また、歩留まり損失やテスト時間の非効率性による過剰なコストの特定にも役立ちます。KLA/TENCOR XP-2は、強力で信頼性の高いウェーハ試験および計測機で、半導体メーカーが直面する多くの問題にデータ駆動型ソリューションを提供します。精密ウェーハ表面スキャンにより、高度な欠陥検査およびプロセス分析機能に加えて、正確なウェーハ測定が可能です。その高度な機能により、半導体メーカーはウェーハの生産コストを大幅に削減し、歩留まりを向上させることができます。