中古 KLA / TENCOR / PROMETRIX RS-75 #9153014 を販売中

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ID: 9153014
ウェーハサイズ: 2"-8"
ヴィンテージ: 1996
Resistivity mapping system, 2"-8" Handler: Desktop Without wafer transfer handler Pentium Pro 150 MHz Computer 64M DRAM High resolution LCD color monitor, 15" Hard Disk Drive (HDD): 200M Diskette drive, 3.5" Capacity: 1.44 MB Data transfer: SECS II / RS232 Communication Measurement capabilities: Routine check: 1-30 Sites programmable (ASTM Standard tests included) Contour / 3-D Map, diameter scan: 49, 81, 121, 225, 361, 441, 625 Sites XY Map: Up to 1200 sites programmable Probe qualification: 20 Sites Single / Dual configuration options Analysis capabilities: Contour, XY Die, 3-D surface maps Diameter scan Trend charts SQC Charts Histograms Probe qualification procedure File editing and data extraction capability Calibration curves for low-dose monitoring Average, difference and ratio maps Measurement specifications: Range: 5 mΩ/sq - 5 mΩ/sq Typical measurement time: 1.2 sec per test site Based on NIST (NBS) standard wafers corrected to 23°C Repeatability: <0.2% (1 Sigma) 1996 vintage.
KLA/TENCOR/PROMETRIX RS-75は、高精度のウェーハ試験および計測機器です。0。2ナノメートルの高度な測定精度を有し、ウェハ特性評価ニーズに最適です。また、平らな形状と3D形状の両方の測定にイメージング機能を提供します。このユニットは、すべての異なるコンポーネントを管理するために設計された強力なソフトウェアパッケージで構成されており、ユーザーはマシン設定を構成し、KLAの高度な計測およびテストソリューションと統合することができます。ソフトウェアスイートは、ユーザがキャリブレーションを行い、データを分析し、レポートを作成できるさまざまなモジュールで構成されています。KLA RS75は、自動焦点調整と最適化されたカメラ露出制御を提供する統合フォーカスチューナーを含む独自のビジョンツールを備えています。このセンサは、2048×1536の高解像度フォトサイトアレイを使用して、標本の画像をキャプチャします。さらに、高度なオートフォーカス資産を備えており、試験片をビジョン装置に提示しながら、モデルが自動的にフォーカス面を調整することができます。TENCOR RS 75は、自動サンプリング機能と統合されており、ウェーハ測定を迅速に切り替えることができます。高解像度のASICと高速モータを使用することで、試験片を1000mm/秒の速度で移動させることができます。これにより、ユーザーはテストのタイムラインを最小限に抑え、出力を最大化できます。このユニットには、さまざまなプローブとセンサーが付属しています。Timedelay Integration (TDI)は、フィーチャーの高さ、幅、深さを測定するための最大量の重要な非接触測定機能を提供します。また、可変光学装置を搭載しており、TDIツールで撮影した画像のズーム倍率を調整することができ、詳細な3D画像を提供します。さらに、このアセットには、マッピングからエッジ検出まで、さまざまなアプリケーション向けのさまざまなビジョンシステムも含まれています。また、エンドオブラインテストからウェーハ欠陥検出まで、幅広い検査ツールを備えています。KLA/TENCOR/PROMETRIX RS75は、ユーザーインターフェイスの強化、ユーザーフレンドリーなコントロール、強力な分析機能により、最も要求の厳しいプロジェクトに最適です。
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