中古 KLA / TENCOR / PROMETRIX RS-55 #9157661 を販売中

KLA/TENCOR/PROMETRIX RS-55 Wafer Testing and Metrology Equipmentは、完全に自動化された、ウェーハ特性評価用の高スループット計測プラットフォームです。高度な光学散乱測定技術を採用し、膜厚、粗さ、光学定数などの重要なパラメータを高精度かつ高精度で測定します。このシステムは、Through-Silicon via （TSV）プロセス、MEMSデバイス、および3Dインテグレーション技術に最適です。KLA RS55ユニットは、最先端の最先端の光学イメージング技術を使用して、より高い精度を実現しています。2つの光学散乱計を使用しており、どちらもnull方程式を使用して正確なパラメータ決定を行います。このマシンは、独自の散乱測定イメージング原理に基づいて、さまざまなサイズと特性のウェーハから重要なデータを抽出します。さらに、自動化された光学アライメントアルゴリズムにより、最も困難なウェーハジオメトリの正確な特性評価が可能になります。TENCOR RS 55には強力なオンボードデータ解析スイートが装備されており、複数のプロセス制御チェックを実行し、ウェーハデータをリアルタイムで分析することができます。このツールはまた、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を備えています。GUIを使用して、カスタムのオペレーティングプロファイルを作成し、プロセス制御を強化し、レポートを生成できます。KLA RS 55の主な利点は、表面特性に対する堅牢性、複数のパラメータを測定する能力、および高スループットです。このツールは、厚さ、ステップ高さ、光学定数、診断など、10以上のパラメータを同時に測定できます。さらに、KLA RS-55は特殊なAPC （Automated Process Control）ソフトウェアと組み合わせて動作し、パフォーマンスの信頼性と再現性を確保してプロセス歩留まりを最大化します。結論として、RS 55 Wafer Testing and Metrology Assetは、ウェーハの特性評価とプロセス監視のための信頼性の高い、費用対効果の高いソリューションを提供します。このモデルの高度な光学イメージング技術と自動化されたプロセス制御により、正確で再現性の高い解析が可能になり、ウェーハプロセス全体で最高レベルの品質を保証します。