中古 KLA / TENCOR / PROMETRIX Omnimap RS-100C #293794163 を販売中

KLA/TENCOR/PROMETRIX Omnimap RS-100Cは、半導体プロセス制御用に設計された、高性能で自動化されたウェーハ試験および計測機器です。革新的な光学設計、高度なアルゴリズム、堅牢なソフトウェアアーキテクチャ、高速な画像取得および解析により、KLA Omnimap RS-100Cはウェーハ検査、計測、分析において優れた結果を提供します。光学設計は、特許取得済みの顕微鏡と高解像度CCDベースのデジタルイメージングシステムを備えており、フルダイ解像度で個々のウエハの画像をキャプチャすることができます。さらに、ラインスキャンカメラを内蔵することで、大画像シーケンスの迅速な取得と解析が可能になります。デュアル波長照明、広い被写界深度、高度なオンボードデータ処理により、微細な構造特性を精密に解析し、窒化物パラシリコンの評価を支援します。TENCOR Omnimap RS-100Cは、業界最先端のウェーハ検査および計測アルゴリズムを活用できる堅牢なソフトウェアを搭載しています。イメージキャプチャを組み合わせた画像解析ユニットを備えています。イメージの強化、イメージの比較、特徴の抽出および自動特徴の分類。これにより、大きな画像データセットを自動的に分析し、欠陥やバリエーションをすばやく特定できます。Omnimap RS-100Cは、高精度で構造や欠陥を測定、検出、報告することができます。迅速かつ正確で信頼性の高い検出により、製造メーカーはプロセスの歩留まりを向上させ、製品品質を向上させることができます。高いスループットと効率的なデータ分析機能により、市場投入までの時間を短縮し、ウェーハテストおよび計測に関連するコストを削減できます。このRS-100Cは、欠陥確率を最小限に抑えながら、積層層、薄膜層、および層内の構造の正確な測定を提供します。マルチレベルスレッショルド、楕円フィッティング、重力測定法などの組み込みアルゴリズムにより、デバイス・レベルの測定と分析を迅速かつ正確に行うことができます。このツールは、ESD、 IPC、 JEDEC、 ITARなどの産業および経済規格に準拠しています。全体として、PROMETRIX Omnimap RS-100Cは、半導体プロセス制御の高い要求を満たすように設計された次世代ウェーハ試験および計測資産です。革新的な光学設計、高度なアルゴリズム、堅牢なソフトウェアアーキテクチャ、高速な画像取得および解析により、プロセスの歩留まりの向上、製品品質の向上、ユーザーのコスト削減を可能にします。