中古 KLA / TENCOR / PROMETRIX M-Gage 300 #9412382 を販売中

KLA/TENCOR/PROMETRIX M-Gage 300は、高度な半導体プロセス制御および分析用に設計された高度なウェーハ試験および計測機器です。このシステムは、ベアウェーハから複雑なデバイス構造までのウェーハの完全な計測を提供し、臨界寸法（CD）、薄膜厚、電気的性能、半導体プロセス収率のためのより重要なデータなどの高度な測定を行うことができます。このユニットには、複数のチャンバ間で単一のウェーハを確実に移動するための3段階の真空伝達モジュールが内蔵されています。高精度モーションマシンは、プロセス全体を駆動し、X、 Y、角度、高さ、ウエハサイズなどの幅広い動作範囲を提供します。KLA M-Gage 300は、高解像度イメージングと自動測定を採用し、再現性と一貫性を備えた正確な試験結果を提供します。このツールは、重要な画像をキャプチャして分析するための明るいフィールドと暗いフィールド光学の両方を備えた高解像度の光学プラットフォームを備えています。広い視野イメージング資産により、デバイスのプロセス制御に不可欠な広範囲の測定が可能です。TENCOR M-Gage 300には、光学散乱計、走査型電子顕微鏡、3D表面プロファイル、楕円測定、干渉計などの高度な計測技術が組み込まれており、複数の構造の物理的および電気的特性を測定します。埋め込みソフトウェアは、収集されたデータを処理して物理的および電気的性能特性を決定し、結果は集計されたフォーマットで報告されます。このモデルは、計器の自動切り替え、以前のデータのリアルタイム分析、高度なソフトウェアの統合、画像の強化、およびその他の高度な計測技術などのカスタム実験のための柔軟性を備えて設計されています。業界トップクラスのデータ精度と信頼性を備え、リピータビリティを備えており、主要な半導体メーカーの要件を満たしています。また、M-Gage Suiteソフトウェアと統合し、高度なデータ収集、処理、分析を実現します。このソフトウェアを使用すると、オペレータは高度なアルゴリズムを使用して、収集されたデータから実用的な洞察をすばやく得ることができます。また、さらなる分析のためにデータのキャプチャ、送信、アーカイブのための標準プロトコルを採用しています。M-Gage 300は、最先端の半導体メーカーの要件を満たし、ウェーハレベルのプロセス制御の正確で信頼性の高い測定を提供するように設計された高度なウェーハテストおよび計測ユニットです。高解像度のイメージング、自動測定、高度な計測、柔軟なソフトウェアにより、オペレータは品質の実験とプロセス制御を確実に実現します。