中古 KLA / TENCOR P2H #9241190 を販売中

KLA/TENCOR P2Hは、さまざまなシリコン集積回路（IC）ウェハの自動、非破壊欠陥の検査および厚さ分析用に設計された最先端のウェーハ試験および計測機器です。ウェーハテストと計測のためのこの高度なシステムは、ハードウェアとソフトウェアの両方で最新の技術を利用しています。KLA P-2Hは、汚染物質、粉塵などの微粒子、加工パターンなど、ウェーハ表面の欠陥を高精度に自動的に検査・分析することができます。内蔵の3D光検査技術は、ウェーハ表面の欠陥パターンを6ミクロン以下の解像度で迅速かつ正確に検出およびマッピングすることができます。また、Hi-Resスペクトルイメージングと蛍光測定を使用して、ウェーハ表面の汚染を特定して測定します。欠陥検査に加えて、TENCOR P 2Hは、ウェーハの厚さなど、チャネルの深さ、パターンのピッチ、ピークの高さなどの地形特性を測定することができます。AVI （Avtical Integration Achievement of Vertical Integration）と呼ばれる特許技術が含まれており、ウェーハの値を迅速かつ正確に分析できます。AVIツールキットは、最大25ミクロンというウェーハパターンの範囲を認識して、ほぼ瞬時に正確な測定を行うことができます。これらのすべての機能により、KLA P2Hは1平方メートル未満の非常に小さなフットプリントで超高速ウェーハ表面試験と計測を実行します。KLA P 2Hは、強力なLinuxベースのソフトウェアアーキテクチャも備えています。それは容易な操作のための洗練されたユーザーインターフェイスを備え、テストデータの完全な捕獲そして分析を提供します。この高度なソフトウェアベースのプラットフォームにより、完全なトレーサビリティとアーカイブ機能を備えたレポートの自動生成が可能です。つまり、マシンによって生成されたすべての分析データの記録された監査証跡をエクスポートして、さらなるレビューとトレーサビリティを得ることができます。KLA/TENCOR P 2 Hは、IC製造プロセスを高度化したウェーハ試験および計測の最先端ソリューションです。ウェーハの高精度、非破壊検査と均一性分析を提供し、データアーカイブとトレーサビリティのための非常に小さなフットプリントと高度なソフトウェアベースの制御プラットフォームを提供します。KLA/TENCOR P 2Hは、ウェーハの生産歩留まり向上を第一の目的として、現代のICメーカーにとって不可欠なツールです。