中古 KLA / TENCOR P2 #9224719 を販売中

KLA/TENCOR P2は、半導体業界に最先端の計測およびテスト機能を提供するように設計されたウェーハ試験および計測システムです。このシステムは、ダイアタッチ、リソグラフィ、誘電体コーティング、レジストコート/開発、ダイボンディングなどの主要なウェハ製造プロセスをサポートします。また、高速光学、熱計測機能、電気計測機能を活用して、高度なプロセス制御、欠陥防止、歩留まり管理を可能にします。KLA P-2は、非接触光学、X線、音響、電気プローブおよびモジュールのスイートで構成され、高解像度のイメージング機能と、層厚、表面粗さ、相互接続ジオメトリ、トランジスタ特性、およびダイアタッチ反りなどのパラメータの詳細な測定を提供します。X線 CCDは欠陥検出を可能にし、光学プローブは線幅、接触穴、接点を測定します。音響および熱プローブは、マイクロバンプの形態と位置を測定します。電気モジュールは、さまざまな電気試験および分析技術を使用してデバイスの特性評価とデバイスの最適化を可能にします。TENCOR P 2は、欠陥検査、計測、プロセス保証、プロセス制御など、デバイス製造のすべての主要な段階を処理するために構築されています。その高解像度と精度により、フィーチャーサイズと形状を正確に制御でき、デバイスのグレード仕様を確実に満たします。高速イメージングおよびデータ解析機能により、デバイスの製造工程をリアルタイムで監視および評価し、プロセスの最適化をサポートし、新しいプロセスやデバイスの迅速なランプアップを可能にします。高度な最適化とデータ管理ツールにより、データ主導の意思決定の効率的な生成が可能になります。KLA P 2には、自動化されたフルフィールドプロセス制御および適応プロセス制御（APC）機能も含まれており、ユーザーはリアルタイムでプロセスを操作できます。ユーザーは、製品歩留まりを改善するために、重要なプロセスメトリクスと重要でない歩留まりデータに迅速に対応できます。全体として、KLA P2は半導体業界にとって強力で信頼性の高いツールです。TENCOR P2は、高解像度の光学、X線、音響、電気プローブ、高度な最適化およびデータ管理機能を備えており、今日の大量で高精度なアプリケーションに必要な高度なプロセス制御、欠陥防止、歩留まり管理を提供します。