中古 KLA / TENCOR P15 #9004295 を販売中

製造業者
KLA / TENCOR
モデル
P15
ID: 9004295
ウェーハサイズ: 4"-8"
ヴィンテージ: 2005
Wafer surface inspection system, 4"-8" P/N: 00151-000 PC Configuration: CPU: Pentium III-C 650 MHz processor Memory: 128M 20 GB HDD 1.4MB 3.5” Floppy disk drive OS: Windows NT 4.0 Application software: Version 6.3 Performance requirement: Vertical range: 0-300 um Stylus force: 1-50 mg Constant stylus force control Dual view optics (sideview: 95-410x, topview: 115-465x) Black and white camera Stylus: 2.0 um radius 2005 vintage.
KLA/TENCOR P15は、さまざまな半導体製品の製造プロセスの効率的なウェーハ試験および監視のために特別に設計されたウェーハ試験および計測機器です。クロスセクション解析、フォーム&表面解析、ワークフローのテストなどの計測アプリケーションに使用できるマルチセンサーシステムです。このユニットは、光学顕微鏡、白色光の干渉計、スタイラス測定から電気試験、熱電試験、音響顕微鏡まで、幅広い技術を提供しています。KLA P-15マシンは、高度なイメージング、画像処理、および分析技術の組み合わせを備えています。このツールは、地形、均一性、電気抵抗などのウェーハの物理的特性を検出することができます。また、ダイサイズ、ピッチ、形状、平坦度など、幅広い特性パラメータを提供します。TENCOR P 15アセットには、半導体プロセスが製造中に最適に監視されやすくなる多くの自動化機能が搭載されています。このモデルを活用して製造現場のウェーハを監視することで、製造者は必要に応じて早期の是正措置を行うことができます。また、ウェーハパラメータを追跡および調整し、一貫した製品を確保するためのリアルタイムシステムも備えています。このユニットは、複雑なウェーハ製造検査を開発するための堅牢なデータ取得、画像処理、および分析ツールを提供します。顕微鏡から電子画像をキャプチャしてデータをレポートやCAD画像に加工したり、カスタマイズされたアルゴリズムを実行して粒子数、エッチング速度、エッジ品質、歩留まりを評価することができます。このマシンには、より大きな欠陥信号から小さな粒子を分離するためのエッジ検出アルゴリズムとアルゴリズムが装備されています。高速・高精度試験が可能で、ウェーハの精密かつ包括的な特性評価が可能です。KLA/TENCOR P 15には、原子力顕微鏡(AFM)、フォトリソグラフィ、プラズマエッチングなど、幅広いエネルギー源があります。データ収集ツールは、さまざまな画像および特性評価モードをサポートし、標準フォーマットでの出力を提供します。それはプロセス制御を補完するために他の試験装置と統合できます。結論として、KLA P 15は、効率的かつ効果的な製造監視のために設計された高度なウェーハテストおよび監視資産です。堅牢で包括的な機能により、包括的な特性評価とフィードバックシステムを提供し、生産ラインの可視性を向上させます。このモデルは、製造中の欠陥を最小限に抑え、歩留まりを改善し、コストとリードタイムを削減するのに非常に役立ちます。
まだレビューはありません