中古 KLA / TENCOR P15 #293616961 を販売中

KLA/TENCOR P15は、半導体デバイスの製造に使用されるウェーハの精密測定および分析を可能にする高度なウェーハ試験および計測システムです。ウエハ表面測定には、3次元（3D）反射計、回折、散乱計、ステレオロジー、表面トポグラフィなど、幅広い機能を提供します。KLA P-15は、高出力レーザービームを使用してウェーハの表面をスキャンし、分析します。スキャンが完了した後、データは穀物構造、結晶方向、テクスチャ、厚さ、リッジ数などのさまざまな特性のために分析されます。また、重要な寸法を測定し、任意の角度から測定を行うことができます。さらに、ウェーハの厚さ、欠陥領域、ウェーハ全体の画像解析のバリエーションを検出する機能も備えています。TENCOR P 15の3D反射測定ツールは、革新的な設計に基づいて精度を提供し、ウェーハ特性のナノレベルの測定を可能にする高速、高分解能測定を提供します。これは、レーザーのテクスチャ面でも、影のない微細な測定を可能にする高出力レーザービームを使用することによって実現されます。3D反射計は、テクスチャや粗さなどの複数のパラメータを同時に解析することもできます。KLA P 15の回折計測により、ウェハ表面の光学特性を向上させることができます。これには、ウエハの微細構造を明確に評価するために不可欠な特定の結晶構造方向を決定し、粒度を決定する機能が含まれます。一方、散乱測定ツールは、ウェーハの回折パターンを測定するために使用されます。これにより、ウェーハの表面構造と層の厚さを正確に測定できます。TENCOR P15のステレオツールは、微細構造を高精度に測定します。ウェーハの3Dトポグラフィを決定するために、複数の上下深度で高精細イメージングを使用します。これは、従来の計測技術では検出できないウエハ上のパターンや構造の細かい詳細を測定するために使用できます。KLA/TENCOR P-15は、高度な表面トポグラフィ測定機能も提供します。これにより、共焦点と干渉計の技術とイメージングを組み合わせて、広い領域での表面地形の詳細なマッピングが可能になります。このシステムは、最高級で最小のサーフェスフィーチャーでも検出できる解像度を備えています。全体として、KLA/TENCOR P 15は、幅広い半導体およびその他のウェハアプリケーションに高度で正確な測定および分析機能を提供する強力なツールです。幅広い計測機能、高解像度イメージング、革新的な設計により、ウェーハの品質と性能を確実に達成するための貴重なツールです。