中古 KLA / TENCOR P10 #9399254 を販売中

KLA/TENCOR P10は、高度な材料特性評価およびプロセスおよび欠陥監視用に設計された高精度ウェーハ試験および計測機器です。半導体デバイス、集積回路などの電子顕微鏡（SEM）やフォーカスイオンビーム（FIB）マッピング用途向けに設計されています。KLA P-10ユニットは、洗練されたイメージング、自動断面加工、高解像度成膜、包括的なイメージングおよび特性評価機能を組み合わせて、包括的なウェーハ検査および分析を可能にします。この機械には、ナノスケールの解像度スキャニングトンネリング顕微鏡、原子力顕微鏡、ラマン分光法、化学イメージングなどのさまざまな統合技術が含まれています。この高度なツールは、地形、欠陥幾何学、平面性、深さ、化学組成などのデバイス特性を迅速かつ正確に測定します。このアセットは、自動焦点距離やフォーカス位置制御、欠陥の最適化などの測定に最適な、さまざまな自動化機能を提供します。さらに、このモデルは、ウェハレベルの欠陥解析を自動化するための広範な計測スイートを備えています。TENCOR P 10には、測定結果の分析と報告のための高度なソフトウェアツールがあります。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスにより、ユーザーはデータをすばやく表示、分析、操作できます。自動化されたツールは、画像から定量計測データを抽出する作業を簡素化します。広範な解析アルゴリズムにより、装置は画像のさまざまなパターン、特徴、欠陥を識別および分類することができます。最大1ミクロンの解像度で画像をキャプチャし、2nmの厚さを測定することができます。高精度のポジショニングユニットを備えているため、試験片をすばやく整列させて焦点を合わせることができます。さらに、このマシンは、半導体材料、石英、サファイア、ガラスなど、幅広い基板や材料と互換性があります。要約すると、KLA/TENCOR P 10ツールの高度な設計と高度な技術により、集積回路などの材料を迅速かつ正確に分析することができます。このアセットは、高解像度のイメージング、自動断面処理、および包括的なウェーハ検査および分析機能を提供します。包括的なソフトウェアツールにより、ユーザーはデータを簡単に表示、分析、操作して、より効果的な測定および分析を行うことができます。この高精度モデルは、幅広い材料特性評価およびプロセスおよび欠陥監視アプリケーションに適しています。