中古 KLA / TENCOR P10 #9035604 を販売中
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販売された
ID: 9035604
ウェーハサイズ: 4"-5"
ヴィンテージ: 1996
Profiler, 4"-5"
Can add 6" & 8" wafer chucks - optional
Currently set up for wafers
MicroHead II low stylus force measurement head
Vertical ranges:
±3.2um at 0.004A resolution
±13 um at 0.016A resolution
131um at 0.08A resolution
Computer, monitor, keyboard & printer
Software: upgraded to KLA/TENCOR P12 software
3-dimensional and selected 2-dimensional data display
Scan length: 60 mm
Manual
1996 vintage.
KLA/TENCOR P10は、先進的なフロントエンド半導体デバイス試験用に設計された高性能ウェーハ試験および計測装置です。高信頼性の光学計測システムを搭載しており、最大200mmまでの広範囲の半導体ウェーハで非常に精度の高いウェーハおよびピクセルレベル測定が可能です。このユニットは高度なビジョンマシンを備えており、ウェーハレベルの特徴と抵抗パターンを測定する能力を備え、数ナノメートルの小さい特徴の検出と分析を可能にします。KLA P-10は、正確な計測測定を提供するために一緒に働くいくつかの異なるコンポーネントで構成されています。その光学計測機能は、フルフィールド光学エンジンによって動力を与えられ、フルフィールド測定を可能にするCOWT (Continuous Optimized Wafer Trajectory)ツールを備えています。このCOWTアセットは異常を排除するように設計されており、さまざまな形状と複雑さのレベルでウェーハの正確な測定を保証します。さらに、TENCOR P 10は、重要なウェハレベルを正確に測定できるウェハレベル(WEL)モデルを備えたイメージングモジュールと組み合わされています。また、KLA/TENCOR P 10は、ウェーハ表面全体にわたって一貫した測定を提供するように設計された、天然および人工の両方のソースで構成された業界をリードする照明機器を備えています。さらに、Low Angle Long Pitch (LALP)ユニットを搭載し、最新のウェーハの曲率による画像歪みを最小限に抑え、あらゆる角度で正確な測定を可能にします。P-10は、欠陥サイズ、形状特性、膜厚、抵抗など、さまざまなパラメータを測定するように設計されています。Optic Security Version (OSV)テクノロジーを使用して、テスト結果を機密に分析するための安全なデータ環境を提供します。OSVテクノロジーは、暗号化、認証、セキュアなネットワーキング機能を統合し、潜在的な外部干渉からユーザーデータを保護します。機械性能の面では、KLA/TENCOR P-10は高速フルフィールドメトロロジーを提供し、読み取り時間は1時間あたり最大40ウェーハ、精度は+/-1nmであり、ウェーハの効率的で信頼性の高い試験および測定ツールとなっています。このアセットは非常に合理化されたユーザーインターフェイスを備えており、機器を簡単に操作できるだけでなく、さらなる分析のために簡単にエクスポート可能なテスト結果を保存および表示する機能も備えています。
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