中古 KLA / TENCOR P10 #293643963 を販売中

KLA/TENCOR P10は、半導体計測およびリソグラフィに使用するために設計されたウェハテストおよび計測機器です。独自の「MW-DWDM （Multi-wavelength dense wavelength division multiplexing）」技術を使用して、光学計測と欠陥検査を組み合わせ、半導体リソグラフィと計測機能を高速かつ正確に解析できます。KLA P-10の中核となるコンポーネントは、2次元（2D）アダプティブスキャン機能、高感度の光学システム、高度な分析ツールです。このユニットの2DアダプティブスキャンとMW-DWDMテクノロジーを組み合わせることで、欠陥部位の迅速かつ正確なスポット検出とウェハマッピングが可能になります。高感度検出器により、測定に必要な光の量を減らすことができます。一方、機械の高度な分析ツールと自動制御ソフトウェアは、サンプルの欠陥を迅速に特定、評価、特定することができます。TENCOR P 10はまた、独自の偏光イメージングツールを使用して、新しいスタンドオフ異常と欠陥をより正確に検出します。この資産は、4つの光学レンズと高解像度補完スキャンを使用して、微妙な計測とリソグラフィの欠陥を特定します。偏光イメージングモデルは、ウェーハカバレッジを向上させ、光クロストークを低減します。P 10の自動欠陥検出機能は、KLA/TERNOCの「MetCam」装置と統合されており、単一のスキャンで複数のレイヤーから欠陥を検出、分類、分離するのに役立ちます。MetCamのユニークなアルゴリズムは、欠陥や機能を正確に検出して分類することができ、高価な誤報率を低減します。KLA P10はまた、高度な光学計測システムを備えており、正確な測定と高速ウェハマッピングのための自動フォーカスと自動マッピング機能を組み合わせています。効率的なサンプル処理と光学機器により、複数のウエハを数分で処理することができ、効率的かつ経済的なデータ収集と分析が可能です。KLA/TENCOR P-10は様々なサンプルフォーマットに対応しており、幅広い用途での使用に最適です。モジュール式のオープンアーキテクチャにより、特定のアプリケーションのニーズに合わせてスケールアップまたはダウンすることができます。KLA P 10はコスト効率が高く、堅牢な構造により、信頼性と耐久性に優れています。結論として、P-10は、半導体リソグラフィおよび計測機能の迅速かつ正確な分析を可能にする高性能ウェーハ試験および計測ツールです。堅牢な欠陥検出、効率的なサンプルハンドリング、高解像度光学計測、高速データ収集および解析のための自動制御ソフトウェアなどの高度な機能を提供します。アセットのモジュール式で適応可能な設計と低コストは、あらゆる半導体の計測およびリソグラフィ用途に大きな価値をもたらします。