中古 KLA / TENCOR M-Gauge 300 #6455 を販売中

KLA/TENCOR M-Gauge 300は、半導体産業のための多次元、フルウェハレベルの測定および分析装置です。これは、高度なプロセス、デバイス、およびプロセス制御を迅速かつオンサイトで評価するために特別に設計されています。KLA M-Gauge 300は、ハードウェアとソフトウェアコンポーネントを組み合わせて構成されており、ウェーハの高精度、リアルタイム測定および分析を可能にします。このシステムは、高度な光学系と高精度レーザー干渉計を使用して、ウェーハの物理的特性をリアルタイムで評価します。これらの機能により、ウェーハ表面の小さなフィーチャーの寸法を小さなスポット計測（幅、深さ、高さ、位置精度など）で測定できます。プロセスハウアウト条件（厚さ、抵抗、およびオーバーレイ精度）を測定します。ステップハイト、サーフェスプロファイルなどの3Dサーフェスフィーチャーを測定します。TENCOR M-Gauge 300は、サンプルの深さと表面測定を自動化し、高いスループットを提供します。このマシンは、プロシージャ8/2モードでサンプルごとに最大20,000ポイントを測定することができ、大規模または複雑な構造の高速解析を提供します。このツールにより、X-Yステージでのサンプルのカスタム挿入と抽出も可能になり、個々のレイヤーを完全かつ正確に測定することができます。ウエハレベルの測定に加えて、M-Gauge 300は強力なデータ収集および分析機能を備えています。包括的な分析ソフトウェアを使用して、ウェーハから得られたあらゆる種類のデータを検査および分析することができます。これには、2Dイメージング、ベクトル/スカラーデータ、時間ベースのデータ、3Dプロファイルデータなどが含まれます。さらに、データを試験結果やプロセス情報と容易に統合して、プロセス全体を完全に特徴付けることができます。全体として、KLA/TENCOR M-Gauge 300は信頼性が高く高精度なウェーハテストおよび計測機器であり、さまざまなウェーハパラメータを迅速かつ効率的に特徴付けることができます。高度な光学、レーザー、解析機能を組み合わせることで、最先端のプロセスやデバイスの設計、最適化、監視に必要なインサイトを提供し、高い成功率と歩留まりを保証します。