中古 KLA / TENCOR FLX-5400 #9299886 を販売中

KLA / TENCOR FLX-5400
ID: 9299886
ウェーハサイズ: 6"
Thin film stress measurement systems, 6".
KLA/TENCOR FLX-5400は、半導体材料のパタリング、測定、検査において、これまでにない精度と生産性を実現する高度なウェーハ試験および計測機器です。超高解像度、高速XYスキャンシステム、自動化されたウェーハハンドリング、汎用性の高いZステージ、および高精度の光学要素と高度なソフトウェアアルゴリズムを備えており、正確で信頼性の高いパターン作成と計測が可能です。KLA FLX-5400は、SOI、緊張シリコン、ポリシリコン、窒化ケイ素、およびその他の超薄膜を含む幅広い材料を試験および測定することができます。これは、高コントラスト動作のための反射防止コーティングとクリアイメージングを提供します。さらに、高速なXYスキャンユニットにより、横方向および横方向の高速動作を可能にし、1時間あたり最大6ウェーハのスループットを実現します。堅牢なZステージは、低ノイズ、高精度のリニアモータステージによって駆動され、広い温度範囲で確実に安定しています。これにより、全高範囲にわたって一貫した再現性が保証されます。Zステージはまた、最小ステップサイズが1nm未満の低い作動力を提供します。TENCOR FLX 5400は、二軸アライメント、回折光学、高度なレンズ、モジュール設計を備えた超高解像度の光学イメージングマシンです。このツールは、0。1 µm未満の測定解像度で、優れた画像解像度を提供します。また、サンプル処理を迅速かつ簡単に行うための自動サンプリングアセットも含まれています。KLA FLX 5400には、ユーザーエクスペリエンスを最適化し、正確性を確保するためのさまざまなソフトウェアツールが組み込まれています。これには、Critical Dimension (CD)測定の自動化と自動レポート生成のためのプロセス制御ソフトウェアが含まれています。また、自動画像キャプチャおよび制御用のオンボードコンピュータ、および後処理の画像解析および検査ソフトウェアパッケージを備えています。FLX 5400は、半導体産業におけるアプリケーション向けの高度なウェーハ試験および計測モデルです。優れた画像解像度、迅速なXYスキャン、および信頼性の高い再現性と精度を実現する低ノイズ、高精度のZステージを提供します。さらに、その高度なソフトウェアツールは、プロセスの自動化と最適化されたユーザーエクスペリエンスを可能にします。これにより、高精度の計測と検査に最適なソリューションとなります。
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