中古 KLA / TENCOR CI-T53P #9254920 を販売中

KLA/TENCOR CI-T53Pは、シリコンウェーハ上のさまざまなパラメータの測定、検査、分析に使用される高度な自動ウェーハ試験および計測機器です。最新の計測技術、洗練されたモーションコントロール、強力なプロセス制御ツールを組み合わせて、半導体デバイス製造プロセスに精密で再現性のあるデータを提供します。KLA CI-T53Pシステムは、ウェーハ分析のための2つの主要な機能を提供しています：計測とテスト。その計測機能により、厚さ、弓/ワープ、幅、オーバーレイなど、1つのウエハで複数のパラメータをテストできます。このユニットは0。25ミクロン以内のオーバーレイ測定が可能で、高度なデバイス設計におけるオーバーレイ精度の監視に最適なソリューションです。さらに、TENCOR CI-T53Pは、平坦度、表面粗さ、粒子汚染など、さまざまな機械的パラメータのウェーハを分析することができます。CI-T53Pマシンには、シングルサイクルで実行できるフルスイートのテストも装備されています。その一つが、ウェーハ上のフォトリソグラフィーパターンの位置、大きさ、形状を正確に測定する写真欠陥検査（PDI）です。もう1つの例はcritical dimension imaging （CDI）で、微細な線幅やその他のデバイス機能を正確に測定するために使用できます。これらのテストは、製造されたウェーハが欠陥のないものであり、デバイス特性が限界内であることを保証するのに役立ちます。KLA/TENCOR CI-T53Pツールは、オペレータに正確で再現性のあるデータを提供するように設計されています。これは、さまざまなテストツールを使用する際にさまざまな精度を統合できる直感的なアセットインターフェイスを通じて有効になります。さらに、KLA CI-T53Pは、各テストの結果が所望の範囲内にあることを確認するために、高度な統計プロセス制御（SPC）ツールを統合しています。これにより、ウェーハプロセスのトレーサビリティ、予測分析、メンテナンスのための幅広い機能が可能になります。全体として、TENCOR CI-T53Pは、半導体デバイス製造プロセスで優れた精度、精度、再現性のあるデータを提供するために設計された強力なウェーハ試験および計測モデルです。その高度な機能により、オペレータはウェーハテストのさまざまなパラメータをより効果的に管理および制御できます。