中古 KLA / TENCOR Candela 8620 #293798120 を販売中

ID: 293798120
ヴィンテージ: 2012
System, 2"-8" Cassette handling Standard: Single puck with up to 200 mm cassette handler Illumination source : Circumferential (50 mW, 405 nm), Radial (85 mW, 660 nm) Performance: Substrate thickness : 380 - 1,300 µm Defect sensitivity : 0.08 µm (PSL on bare) Opaque substrates: Si, GaAs, and InP Materials: SiC, GaN, sapphire, and glass Power supply: 115 V, 12A, 50/60 Hz, 95 - 110 PSI Operating system : Windows XP Professional SP3 2012 vintage.
KLA/TENCOR/PROMETRIX Candela 8620は、メモリおよびロジックプロセスノードに卓越したスループットとパフォーマンスを提供するラインウェーハテストおよび計測機器のトップです。このシステムには、FOUPに依存しないOpenstageウェーハ処理、スパッタリングチャンバー、および業界をリードするPhased Array Optical Profiler (PAOP)が装備されており、正確な高解像度の地形測定と重要な機能パラメータを提供します。このユニットは、半導体メーカーや研究開発に焦点を当てたプロセスノードのニーズに応えるように設計されています。ロードポート、スプリットトンネル、エレベーターで構成されるOpenstageウェーハ処理により、効率的なウェーハ処理とソートが可能です。スパッタリングチャンバーは、クリーンルーム環境と自動スパッタリングプロセスを提供し、金属膜の蒸着、接触エッチング、およびその他のアプリケーションを提供します。KLA Candella 8620の中心は段階的な配列の光学プロファイラ(PAOP)です。PAOPは、さまざまなレーザーを使用して、ラインのエッジと幅の粗さ、クリティカルな寸法、サイドウォールの角度、ピッチ、ポールの幅などのトポグラフィーと重要なフィーチャーパラメータをキャプチャします。PAOPは、表面形状の変化によるウェーハの小さな位置ずれを追跡および修正することによって機能します。PAOPは、個々のチップまたは50 nmのフル・ウェーハ表面での画像処理が可能です。Candella 8620は、統合された原子力顕微鏡(AFM)マシンのおかげで、原子レベルまで測定機能を提供することもできます。AFMは、1 nmの解像度でフィーチャーの寸法と高さを測定するために使用されます。AFMは、0。01nmの微細なライン端の粗さを測定することができます。また、Candella 8620は、ウェーハ表面の欠陥を検出し、特性評価するために使用することができます。TENCOR Candella 8620ツールは、半導体の生産において高い歩留まりを確保するための強力で汎用性の高いツールです。業界をリードするスループットと精度により、生産レベルのウェーハメトロジーとテストに信頼性が高く、費用対効果の高いソリューションを提供します。
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