中古 KLA / TENCOR Alpha Step 100 #9016122 を販売中

ID: 9016122
Profilometer / Surface profiler Scan unit: Model number: 10-00020 Controller unit: Model number: 10-00030 Power requirements: 117 V - 60 Hz Features: Automatic leveling Measurements completed in less than 1 minute 1,000 Å full-scale No shock isolation required Mechanical, electronic and thermal stability Specifications: Measurement ranges (full-scale deflection): 1,000 å, 2,500 å, 5,000 å, 10 kå, 25 kå, 50 kå, 100 kå, 250 kå, 500 kå, 1,000 kå Resolution: 10 å (minimum detectable step) Auto zero: Recorder automatically starts at any preset level Horizontal magnification / scan speed / recorder speed: 50 x / 0.1 mm/sec 5 mm/sec 500 x / 0.01 mm/sec / 5 mm/sec 2500 x / 0.01 mm/sec / 25 mm/sec Scan length: 3 mm in either direction (6 mm total) Stylus: diamond 12.5 µ radius standard Tracking force: Factory-set 15-18 mg (1 mg minimum) Sample stage dimension: 190 mm (7.5") w x 127 mm (5") deep Sample stage movement: X-axis: 3 mm (12") Y-axis: 48 mm (1.9") Z-axis: 11 mm (46") plus (vertical) stylus lift Throat depth: 65 mm (2.54") allowing measurement anywhere on a 125-mm (5") Dia wafer Maximum acceptable sample thickness: 11 mm (46") Operational modes: Automatic leveling and scan Manual leveling and scan Automatic leveling and manual scan Optics: Non-inverted image, 22x magnification Illumination: Light-emitting diodes Chart recorder: Type: Thermal printing Chart speeds: 5 and 25 mm/sec Chart size: 5 cm (2") Continuous roll Linearity: ±1% full-scale Max drift vs temperature: 0.5 division/10°c Max drift vs time: 0.1 division/8 hrs Dimensions: Scan unit: 208 mm (8.2") w x 226 mm (8.9") h x 422 mm (16.6") d Control unit: 216 mm (8.5") w x 125 mm (4.9") h x 394 mm (15.5") d Weight: Scan unit: 7.7 kg (17 lbs) Control unit: 6.4 kg (14 lbs).
KLA/TENCOR Alpha Step 100は、ナノメートルスケール機能の非破壊光学測定および3Dトポグラフィに使用できるウェーハ試験および計測機器です。デバイス構造の精密測定、多層膜厚測定、半導体ウェーハ等の基板上の重要寸法測定が可能です。KLA Alpha Step 100は、様々なパラメータを正確に測定するためのスキャントンネリング顕微鏡(STM)とクアッドセル干渉計(QCI)を備えています。STMは真空環境で動作し、ナノメートルレベルの精度で表面フィーチャーのイメージングを可能にします。QCIは、ウェーハ表面の3D地形的特徴に加えて、ナノレベルの膜厚を測定します。また、2。5ナノメートルの解像度で表面の3D画像をキャプチャする非接触表面プロフィロメータを搭載しています。プロフィロメータは、表面粗さなどの材料特性に加えて、地形データと表面データの両方を収集します。TENCOR Alpha Step 100は、最も微妙な欠陥を検出することができ、ウェーハ測定とプリント検査の両方に最高レベルの精度を提供します。これは、過剰露出と過剰露出の両方の問題を検出できる高度な位相シフト解析プログラムを備えています。このマシンには、重要な寸法を測定し、ライン幅、ラインエッジの粗さ、ラインとスペースの幅の変化、およびレイヤー間のオーバーレイに対処するための分析パッケージも含まれています。Alpha Step 100は、プロセス監視や歩留まり解析などの追加アプリケーション用の測定ツールと統合できます。さらに、このツールはオートステージ機能を使用してハイスループットテストを可能にすることができます。また、コンピュータ制御の光学ヘッドを搭載し、非接触マルチサンプルのアライメントと測定を可能にし、1つのパスで高精度な試験を可能にします。これは、ウェーハの認定とモニタリングプロセスのドリフトの両方にとって重要です。さらに、KLA/TENCOR Alpha Step 100は、プログラマブルなウェーハステージを備えており、さまざまな構成で複数のサンプルを配向して、さまざまなダイサイズのスループットと精度を最適化し、半導体ウェーハテストに非常に役立ちます。
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