中古 KLA / TENCOR 6220 Surfscan #9195861 を販売中

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ID: 9195861
Wafer inspection system Bare wafer surface defect inspection system Thickness: SEMI Standard wafer Material: Scatters less than 5 percent of Incident Light Defect sensitivity: PSL Sphere equivalent: 0.09 Micrometer diameter With greater than 80 percent Repeatability: Less than 0.5 percent at 1 standard deviation Accuracy: Better than 99 percent Throughput: 100 wph at 0.12 mm Contamination: Less than 0.005 particles / cm2 greater than 0.15 mm diameter Cassettes handling: (2) Single puck wafer handling Illumination source: Argon-ion laser: 30 mW Wavelength: 488 nm Operator interface: Mouse / Keypad Operations manual and documentation.
KLA/TENCOR 6220 Surfscanは、光学および電気技術の力を組み合わせたウェーハ検査および計測機器で、ウェーハ検査に対する包括的かつ正確なアプローチを提供します。このシステムは、直径200mmから450mmのあらゆるサイズのウェーハのプロセスを監視するように設計されています。半導体、ヒ素ガリウム、マイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)など、幅広いウエハ材料の検査が可能です。サーフスキャンは、リアルタイムの解像度と自動測定でラボグレードの精度を提供するように設計されています。420-1000nm範囲のマルチスペクトルイメージングと、デュアルオプティカルヘッド(光学プロフィロメーターと顕微鏡のペア)を使用してウェーハの地形を測定します。また、自動化されたステップ高さ測定、CD(臨界寸法)測定、トポグラフィー特性評価、ラインエッジ測定用の専用ソフトウェアも装備されています。サーフスキャンには、詳細な欠陥試験のための自動しきい値ベースの金型ソートプロセスがあり、粒子、欠陥、およびその他の不規則性を検出することができます。また、光学的不連続性に加えて電気的不連続を検出することもできます。このツールには、事前に定義された欠陥タイプのライブラリもあり、欠陥タイプをすばやく特定してから自動的に修正アクションを適用することができます。アセットには、カスタマイズされたシナリオやライブラリ設定に適用できる柔軟な欠陥分類と、歩留まりとスループットを向上させるクローズループ最適化も装備されています。また、サーフスキャンは、ハイダイナミックレンジ(HDR)イメージング、3D計測、および自動ライン重大寸法(CD)マッピングを含む、計測ツールと機能の包括的なスイートで設計されています。これらのツールを使用すると、ユーザーは高い精度と速度でウェーハのさまざまな領域を測定することができます。さらに、このモデルには一連のレポートツールが装備されており、ユーザーはテスト結果を迅速にレビューおよび分析し、プロセスの最適化を通知するための傾向を特定することができます。Surfscanは高度に構成可能であり、さまざまなウエハーおよびプロセスのタイプを満たすために合わせることができます。この装置は、故障解析から研究開発まで、さまざまなウエハテストのニーズに適しています。堅牢な技術仕様と包括的な計測と欠陥検出機能を備えたSurfscanは、大量の製造と少量のラボ操作の両方に適しています。
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