中古 KLA / TENCOR 6220 Surfscan #9174323 を販売中

ID: 9174323
Defect inspection system, 4"-8" Laser hours: 2,184 PSL Sizing Automatic wafer handler Sensitivity: Most surfaces: 0.20μm @ 95% Polished surfaces: 0.10μm @ 95% Detects sub-micron particles on bare silicon Capture rate: 0.12μm defect sensitivity on bare silicon Repeatability: Less than 1.0% at 1 standard deviation Mean count: > 500 Diameter latex spheres on bare silicon: 0.204 Contamination: Less than 0.005 particles / cm > 0.15 μm Haze sensitivity: 0.02 ppm Defect map & Histogram: Zoom illumination source Argon-ion laser: 30 mW Wavelength: 488 nm 2D Signal integration: 50μm Spatial resolution Non-contaminating robotic handler Random access: Sender / Receiver unit.
KLA/TENCOR 6220 Surfscanは、さまざまなフォトメトリック、原子力顕微鏡(AFM)、地形および分光機能を備えた完全にプログラム可能なウェーハ試験および計測機器です。ナノ加工、プロセス制御、先端半導体材料の研究開発に最適です。他の計測システムと統合できるため、製品開発やプロセス開発に最適です。KLA 6220 Surfscanの高密度光学検出システムは、欠陥部位の画像とマップをキャプチャし、自動的に分類して測定します。フィルム検査用のマルチモーダルスキャンモード、3次元および1つのフィルムサーフェスでのフィルムセット間のマッピングが含まれています。これにより、ウエハマッピングや一連の欠陥解析を容易に行うことができます。TENCOR 6220 Surfscanは、最高の汎用性と精度を目指して設計されています。さまざまなレーザーを使用して、ウェーハ表面の欠陥を正確に測定します。そのイメージングユニットは、確率的アルゴリズムに基づいて、ピット、マーク、傷などの欠陥フィーチャーを区別することができます。また、ウェーハの垂直面と水平面の両方の粗さを極度の精度で調べることができます。6220サーフスキャンには、膜厚や反射率、屈折率などの材料特性を正確に測定できる信頼性の高い計測システムも含まれています。光学、AFM、分光システムが連携して、化学組成、層厚、結晶成長方向の正確な測定を行い、プロセス制御を確実にすることができます。KLA/TENCOR 6220 Surfscanには、化学検出や電気測定など、さまざまなインターフェイスオプションがあります。また、ウェーハの整列と画像のキャプチャのプロセスを簡素化する堅牢なソフトウェアも備えています。その結果、研究者や技術者が新しい材料、プロセス、技術を開発し、テストするために使用することができます。結論として、KLA 6220 Surfscanは高度で汎用性の高いウェハテストおよび計測ツールであり、欠陥を正確に測定および検査することができます。マルチモーダルスキャン機能と信頼性の高い測定により、先進的な半導体材料の製品およびプロセス開発に最適です。
まだレビューはありません