中古 KLA / TENCOR 6200 #293656105 を販売中

KLA/TENCOR 6200は、高精度の非破壊型3Dマッピング機能を提供する最先端のウェハテストおよび計測機器です。最先端のデュアルステージ光学センサは、最小ピクセルピッチ0。3 µmのキャリブレーション独立した光学システムを備えているため、半導体ウェーハなどの非常に小さなフィーチャーサイズの定量的識別に最適です。統合されたデュアルステージ照明ユニットと近赤外線（NIR）センサーにより、複数のデータを1つの測定で収集できます。品質管理とプロセス最適化のために、KLA 6200は高速で正確な非破壊的な非接触3D測定機能を提供します。このマシンは、最大16レベルのディテールでウェーハ表面の各機能を測定することができ、迅速かつ正確な結果を提供します。TENCOR 6200はまた、自動表面洗浄とドライスキャンを提供し、自動画像処理機能は検査プロセスをさらに合理化し、手動介入の必要性を低減します。収集されたすべてのデータは将来の使用のために保存され、処理済みおよび非処理データの迅速なリコールを可能にします。さらに、6200は、0.5µmの正確な横分解能と70nmの最大高感度を備えています。これにより、5nm以上の精度を維持しながら、最大3mmまでの厚い基板を測定することができます。その広いダイナミックレンジは0。005から1000 µmまで広がり、複雑な表面形状や輪郭の解析に非常に適しています。KLA/TENCOR 6200のユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）により、最も複雑なウェーハ検査プロトコルの設定、学習、実行が容易になります。このツールに内蔵された分析ツールは、パターン認識、欠陥追跡、データポイントのプロービングを可能にし、ウェハレベルのテストと計測に最適です。要約すると、KLA 6200は強力で汎用性の高いウェーハテストおよび計測資産であり、高速で正確な非破壊的3D測定機能を提供します。その自動表面洗浄とドライスキャン、正確な横分解能、広いダイナミックレンジは、複雑な表面形状や輪郭の分析に非常に適しています。また、ユーザーフレンドリーなGUIにより、このモデルのセットアップと操作が簡素化され、ウェハレベルのテストと計測に最適です。