中古 KLA / TENCOR 5100 #9351407 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
KLA/TENCOR 5100ウェハテストおよび計測機器は、マイクロエレクトロニクス回路製造業界における品質管理とプロセス制御を提供するために設計された汎用性の高いプラットフォームです。このシステムには最先端の光学系が搭載されており、ウェーハ上の重要寸法やフィーチャーサイズを正確に測定できます。自動メトロロジーモジュールを組み込んで、ウェーハ内の複雑なパターンを高解像度で迅速に分析し、高いスループットと信頼性の高いプロセス制御を実現します。KLA 5100は、プラズマエッチングを用いたウェーハやレジスト層など、さまざまな基板上のパターンを検査するための自動光学顕微鏡ユニットです。ピットやボイドなどの小さな欠陥を特定するための高解像度検出器と洗練されたソフトウェア、および正確なマイクロスケール測定を備えています。このツールのマイクロエレクトロメカニカルマシン（MEMS）テストヘッドにより、ウェーハ上の特定のサンプルに対する電気信号の迅速かつ正確なプロービングとテストが可能になります。このMEMS技術は、集積回路の機能と電気特性を正確に測定するために使用されます。TENCOR 5100はまた、ウェーハ表面の厚さ、反射率、地形を測定するマルチセンサアセットと、化学機械研磨技術によって作成された表面の均一性をテストする化学機械研磨（CMP）オプションを備えています。また、レイヤー厚の均一性を測定する光学散乱計や、ウェハ表面の微小な凹凸を解析するNUSM （Non-Uniformity-of-Surface Measurement）ツールを搭載しています。5100は、1mm未満から最大450mmまで、さまざまな寸法のウェーハ試験が可能です。データ分析では、装置を使用してプロセス制御チャートと値を作成し、時間の経過とともにプロセスの安定性を測定できます。さらに、このシステムは直感的なユーザーインターフェイスを提供し、半導体業界の研究開発アプリケーションの開発に最適です。KLA/TENCOR 5100ウェハテストおよび計測ユニットは、半導体業界において高いスループット、正確な測定、信頼性の高いプロセス制御を提供するために設計された汎用性の高いプラットフォームです。ウェーハ上の複雑なパターンや電気特性を分析し、プロセス制御に必要な定量的なデータを提供するための、さまざまな最先端の技術を取り入れています。ウェーハ寸法を1mm未満から450mm以下まで測定できるため、幅広い基板の解析に最適です。
まだレビューはありません