中古 KLA / TENCOR 5100 XP #293727707 を販売中
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ID: 293727707
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
Overlay measurement system, 8"
Wafer loader system:
Transport system: (2) Cassette loader / unloader
Pre-alignment: OF Detection function
Control console:
Menu terminal
Image display terminal
5501 Analysis station
DEC VLC 4000
RAM: 16 MB
QIC Tape drive: 320/525 MB
Floppy Disk Drive: 3.5"
Image hard copy
Printer
SECS
Patlite
Hard Disk Drive (HDD): 2 GB
Wafer thickness: 725 µm
Minimum die size: 3 mm
Maximum die size: 50 mm
Measurement throughput: <85 Sheets / hour
Clean dry air:
Flow rate: 84.9 l/min
Pressure 603 kg/cm² - 7.7 kg/cm²
Tube, 1/4"
(3) Vacuums:
Hg: 635 mm
Flow rate: 28.3 l/min
Tube, 1/4"
Exhaust:
Duct system: 14.5"
Flow rate: 250 cfm
Missing parts
Temperature: 19°C - 25°C
Power supply: 200 VAC, 20 A, Single phase, 50/60 Hz
1996 vintage.
KLA/TENCOR 5100 XPは、ハイエンドの研究開発ラボで使用するために設計された高度なウェーハ試験および計測機器です。このシステムは、高度な分光技術を使用してウェーハの物理特性を測定します。光学・電気抵抗、微細構造、膜厚などのパラメータを正確に測定し、最先端のマイクロエレクトロニクス製品の製造を最適化します。このマシンは、0。1ミクロンの精度と感度で、直径12インチのウェーハをイメージングすることができる強力な検査ツールを備えています。さらに、アセットは1つのウェーハの表面全体を数分以内に迅速にスキャンして分析することができ、高速回転プロセスに最適です。また、KLA 5100 XPは、ウェーハの位置決めのための2つの独立した電動ステージを備えています。ステージは直線運動と回転運動の両方が可能で、研究者は単一のセッションで複数の標本を検査する柔軟性を提供します。ステージは高精度で、解像度は1ミクロンです。また、精密光学顕微鏡と高性能イメージングカメラを搭載しています。カメラは、0。1ナノメートルまでの解像度で微細な線やカットの深さなどの単一の表面や他の個々の特徴の画像をキャプチャすることができます。この顕微鏡は、研究者にサンプルを詳細に分析する能力を提供し、マイクロエレクトロニクスプロセスをさらに最適化するために使用できる貴重な情報を提供します。TENCOR 5100XPのその他の特徴としては、自動ウェーハ表面検査装置、ウェーハの集中化を測定するための自動デフレクトメトリデータ収集システム、粒度と位置を決定するための自動パーティクルテストユニットなどがあります。結論として、5100XPは最も要求の厳しい研究開発ニーズを満たすように設計された高度なウェーハ試験および計測機械です。このツールは、研究者にウェーハ特性を迅速かつ正確に測定する柔軟性を提供し、プロセスを最適化し、最高品質のマイクロエレクトロニクスコンポーネントを製造することができます。
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