中古 KLA / TENCOR 4000 SURFSCAN #9229798 を販売中

KLA / TENCOR 4000 SURFSCAN
ID: 9229798
ウェーハサイズ: 6"
Unpatterned wafer inspection system, 6".
KLA/TENCOR 4000 SURFSCANは、コンパクトなパッケージで高精度と安定性を提供する強力なウェハテストおよび計測機器です。このシステムは、echelleイメージングユニット、電動サンプルステージ、4つの放射チャネル、高精度の光学レーザー干渉計、および統合された信号処理および制御で構成されています。エシェルイメージングマシンは、ベア、バンプボンドウエハ、デュアルウェハスタック、多層デバイスなど、さまざまなサンプルタイプの迅速かつ正確なスキャンを可能にします。このツールは、高解像度CCDカメラの配列と組み合わせたコリメータ/プログラム可能なシャッターアパーチャーマスクを使用して、評価と比較のための特徴構造の詳細な画像を取得します。電動サンプルステージは、精密かつ反復可能なX/Y/Z動作が可能で、ウェハレベルの正確な測定に優れたプラットフォームを提供します。X/Yモーションはステッピングモータとオーバーラップによって駆動され、迅速かつ再現性のあるスキャンプロセスを可能にします。ZモーションはDCモータによって駆動され、Zフォーカスによりギャップやその他の3次元測定の最高レベルの精度を確保できます。内蔵レーザー干渉計が内蔵されており、X/Y平面のサンプルハイトの調整が可能です。このアセットは、可視波長スペクトル(VIS)、近赤外線スペクトル(NIR)、紫外線スペクトル(UV)、 紫外線/THzスペクトル(UV-THz)の4つの別々の放射チャネルからの放射を組み合わせて動作します。この放射線源を組み合わせることで、ウエハトポグラフィーの正確な決定と欠陥の評価、およびダイバイ・ダイ性能を可能にします。放射線は、サンプルイメージングモデルを介して結合され、サンプルに向けられ、センサーに反射されます。KLA 4000 SURFSCANウェハテストおよび計測機器は、むき出しとぶつかったウェハテストの両方の正確で非破壊的な分析を提供します。このシステムは、放射光源と光干渉を組み合わせて、金型と構造の両方の包括的で高解像度の画像を取得することができます。また、自動化されたハンドリングシステムと容易に統合できるように設計されており、大量のウェーハを処理する際のリソースの効率的な使用を可能にします。そのため、半導体製造業界における故障解析やプロセス制御のための優れたツールです。
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