中古 IMS LVIS-III #9134183 を販売中

IMS LVIS-IIIウェーハ試験および計測装置は、薄型ウェーハとデバイス構造の両方の高精度で再現可能な測定、および歩留まりと信頼性の問題を提供するように設計されています。これは、故障解析、プロセスモニタリング、計測など、半導体業界のさまざまなアプリケーションに適した確立された信頼性の高いツールです。LVIS-IIIは、高解像度フルフィールドイメージングシステム、高温安定化環境、低ノイズ動作など、いくつかのユニークな機能で構成されています。フルフィールドイメージングユニットは、ウェーハ上の特徴を正確に測定するために、最大0。5umの解像度を実現します。さらに、このマシンは、複数の画像を1つの大きな画像に整列させ、より大きな視野を提供する特別なイメージング機能を提供します。精密な温度制御環境により、正確な測定のための最も安定した条件が保証され、低ノイズアンプはさらに精度を向上させます。IMS LVIS-IIIは、さまざまな機能と欠陥を検出および分析する包括的な計測機能を備えています。ウェーハ上の非常に小さな特徴（浮き上がった粒子、傷、表面の質感、またはサブミクロンのサブサーフェス欠陥など）を検査し、分離することができます。また、故障解析断面、X線蛍光、スキャンイオン顕微鏡などの高度な欠陥解析ツールを搭載し、様々な欠陥を綿密に解析しています。LVIS-IIIツールは、迅速かつ信頼性の高いデータ収集のために設計されています。これにより、物理的なウェーハ処理が不要になり、時間とコストを大幅に削減できます。また、ウェーハの測定を高速化するために最大25箇所を同時に測定することができ、測定を抽出して統計分析を行うことができ、ユーザーに完全な分析パッケージを提供します。全体として、IMS LVIS-IIIウェハテストおよび計測モデルは、半導体業界において強力なツールです。高解像度イメージング、温度安定環境、高度な計測機能により、ウェハテスト、信頼性解析、プロセス監視に最適です。