中古 FOGALE NANOTECH Deeprobe 300-M #293644160 を販売中

ID: 293644160
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2014
System, 8" CCD Camera Adjustable metrology spot size TSV Diameter: >2 µm A:R Up to 30 2014 vintage.
FOGALE NANOTECH Deeprobe 300-Mは、高度な半導体測定用に設計された自動ウェーハ試験および計測装置です。多次元半導体計測システムで、電気的および物理的特性のためのウェハマッピングを行うことができます。Deeprobe 300-Mは、最先端のシリコンウェーハ技術を念頭に設計されています。自動化されたプローバーと正確な計測のための高精度イメージングユニットを備えています。FOGALE NANOTECH Deeprobe 300-Mは、革新的な「積み重ねセンシング」技術を使用して、マイクロメータスケールを超える幅広いサンプルにわたる直径、線幅などのパラメータを測定します。プローバは、さまざまなプローブチップサイズに対応するように構成可能で、サンプル範囲全体にわたって優れた精度と再現性で測定できます。この機械はまた正確な結果を保障するためにプロファイルエラーのために自動的に目盛りを付けることができる少数の測定システムの1つです。Deeprobe 300-Mは、シリコンウェーハの欠陥を正確に検出できる強力なイメージングツールを備えています。これには、粒子境界、粒子と空隙、側粒度などが含まれます。また、このイメージングアセットを使用すると、サンプルプロファイルの深さマップを作成でき、プロファイルのバリエーションやその他の欠陥を識別するのに役立ちます。ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェイスは、FOGALE NANOTECH Deeprobeの操作をシンプルかつ直感的にするように設計され300-Mいます。この装置は、標準的な産業プロトコルを通じて、ウェーハ解析に使用される他のツールや技術と容易に統合することができます。これにより、セットアップと使用が簡素化され、ウェーハ製造プロセスの効率化に役立ちます。結果の正確性と再現性を確保するために、Deeprobe 300-Mは包括的な分析と報告システムも備えています。この情報は、プロセス制御を改良し、ウェーハの歩留まりを改善するために使用できます。このユニットは、欠陥プロファイル形状、エッジ角度、粒度分布などのメトリクスに関するデータを提供する動的レポートを生成できます。要するに、FOGALE NANOTECH Deeprobe 300-Mは、電気的および物理的特性のためのウェハマッピングにおいて優れた精度と再現性を提供する自動ウェハテストおよび計測機械です。強力なイメージングおよび分析機能を備えており、正確な結果を保証し、ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェイスにより操作が簡単になります。このツールは、高度な半導体計測用途に使用するために設計されており、ウェハ検査、欠陥監視、プロセス改善に最適です。
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