中古 FILMETRICS F10-RT-UV #293768760 を販売中
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ID: 293768760
Thin film analyzer
Wavelength range: 190-1100 nm
Thickness measurement range: 1 nm-40 µm
Minimum thickness: 50 nm
Probe spot size: 6 mm
Interface: USB 1.0
Light source
Accuracy:
Precision: 0.02 nm
Stability: 0.05 nm
Halogen light
Spectrometer:
Wavelength accuracy: 0.5 nm
Wavelength reproducibility: 0.1 nm
Wavelength resolution: 2.5 nm
Noise: <0.0002 A
Stray light: <0.25% at 500 nm
Amplitude resolution: 14 Bit
Does not include PC
Operating system: Windows XP, 64 Bit
CE Marked
Power supply: 100-240 VAC, 20 W, 50/60 Hz.
FILMETRICS F10-RT-UVは、半導体製造プロセスに精密かつ正確な測定を提供するために設計された最先端のウェーハ試験および計測機器です。この高度なシステムには、さまざまな革新的な技術と機能が組み込まれており、半導体ウェーハの品質と一貫性を確保するための不可欠なツールとなっています。F10-RT-UVの主な特徴の1つは、紫外線(UV)測定機能です。UV分光法は、膜厚、組成、光学特性の詳細な情報を提供するため、半導体ウェーハ上の薄膜特性を評価するための強力な技術です。FILMETRICS F10-RT-UVは、高感度・高分解能で薄膜の紫外線吸収・反射を正確に測定できる高性能UV分光計を搭載しています。UV分光に加え、リアルタイムモニタリング機能F10-RT-UV搭載しています。この機能により、ユーザーはウェーハ上の蒸着およびエッチング工程をリアルタイムで追跡することができ、プロセスパラメータを即座にフィードバックし、望ましいフィルム特性を確実に実現できます。FILMETRICS F10-RT-UVのリアルタイムモニタリング機能は、製造プロセスを最適化し、半導体製造の欠陥を最小限に抑えるために不可欠です。F10-RT-UVのもう一つの重要な側面は、ウェーハマッピング機能です。この機能を使用すると、ウェーハの表面全体にわたる膜厚と均一性の詳細なマップを作成できます。これらの地図を解析することで、フィルム成膜プロセスのバリエーションや欠陥を特定し、ウェーハ全体の品質を向上させるために必要な調整を行うことができます。FILMETRICS F10-RT-UVでは、データ分析とレポート機能も自動化されています。このユニットは、大量の測定データを迅速かつ正確に処理し、ウェーハの品質に関する詳細なレポートと洞察をユーザーに提供します。F10-RT-UVの自動化されたデータ分析機能は、時間を節約し、ヒューマンエラーのリスクを軽減し、ユーザーが信頼できるデータに基づいて情報に基づいた意思決定を行うことができるようにします。さらに、FILMETRICS F10-RT-UVは、ユーザーフレンドリーなソフトウェアとインターフェイスで設計されており、オペレータが測定を構成し、データを分析し、レポートを生成することが容易になります。機械の直感的なソフトウェアインターフェイスにより、ユーザーは測定パラメータをカスタマイズし、測定シーケンスを設定し、測定結果を組織的かつユーザーフレンドリーに表示できます。全体として、F10-RT-UVは最先端のウェーハテストおよび計測ツールで、高度なUV分光機能、リアルタイムモニタリング、ウェーハマッピング、自動データ分析、ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェイスを提供します。この強力な資産は、ウェーハの品質と一貫性を向上させ、生産プロセスを最適化しようとする半導体メーカーにとって不可欠です。
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