中古 FILMETRICS F10-ARc #293645023 を販売中

FILMTRICS FILMETRICS F10は、半導体産業の高度な半導体プロセス制御用に設計された最先端のウェーハ試験および計測プラットフォームです。マッピング、光学検査、分光楕円計測、散乱計測などのさまざまな計測機能と、独自の粒子計測機能を備えており、高度なプロセス制御が可能です。これは、市場で入手可能な最も先進的なウェーハテストおよび計測システムの1つであり、幅広い機能を提供しています。FILMTRICS FILMETRICS F 10は、高度な光学、視覚、分光技術の組み合わせに基づいています。「Vision64 Vision Equipment」と呼ばれる独自のビジョンプラットフォームを持ち、高度な画像処理アルゴリズムと組み合わせた高度な画像処理機能を備え、ウェハレベルのプロセス制御のための詳細な画像解析を可能にします。このシステムには、ユニット全体を制御するためのユーザーフレンドリーで直感的な制御ソフトウェアを備えた「LCM Metrology」制御ソフトウェアも装備されています。Filmtrics F10は、全自動、定期的、静的な光検査機能を備えています。このマシンには2つの大きな表示窓があり、複数のプロセスステップとレイヤーを同時に使用して最大4つのウェーハ全体を検査できます。このツールはまた、ウェハレベルのプロセス制御のための詳細な表面測定のためのマイクロメータスキャンオプティクスを統合しています。F 10は、独自の計測機能を備え、ウェーハレベルで幅広いプロセスおよび構造パラメータを特徴付けることができます。フィルム厚とCDバリエーションを最大6。5ミクロン分解能で測定し、屈折率と消滅係数を測定して材料特性のバリエーションを評価することができます。また、オプションのelypsometer機能強化により、さまざまな材料（エピレイヤーを含む）の反復可能で再現可能な光学厚さを測定することもできます。また、粒子汚染解析、粒子サイズ解析、形態解析、欠陥解析の最新技術も統合されています。FILMETRICS F10は、上記の計測機能と組み合わせて、包括的なウェハレベルのプロセスと品質管理機能を提供します。FILMTRICS FILMETRICS F 10には複数のサンプリングモードも用意されており、最大4つのウェーハを一度に選択してプロセスと構造パラメータを測定することができ、プロセスを最適化および改善する柔軟性を提供します。このモデルはまた、マシンビジョンを使用して正確で一貫したサンプル位置を取得するサンプル位置認識装置を統合しています。結論として、Filmtrics F10は、優れたプロセス制御と品質保証機能を提供する強力で高度なウェーハ試験および計測システムです。計測と粒子計測の独自の組み合わせにより、半導体プロセス制御に最適です。