中古 EM ETAMAX UniMAP #293674206 を販売中
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ID: 293674206
ヴィンテージ: 2013
Automatic reflectivity mapping system
With transformer for EU voltage, 230V
ULVAC Vacuum pump for robot
(14) Cassettes, 2"
(6) Cassettes, 4"
(6) Cassettes, 6"
X-Y Stage: AC Servo control
Cassette holder: 2"-6"
Operating cassette size: 2"-6"
Robot type: Auto loader
Flat zone finder
Z-Stage adjustment
Light source:
White LED: Reflectance measurement
LED Intensity monitoring: One sensor
Spectrometer:
3636 Pixels
Wavelength range: 420 nm, span: 380-800 nm
Hardware pixel resolution : 0.13 nm/pixel
Optic slit: 50 µm
USB Control
Filters and lens
Measurements:
Wafer surface uniformity
Reflectance by spectrometer
Calculated by maximum - minimum / Maximum + minimum
Calculated by standard deviation
Minimum and maximum value of reflectance
Data acquisition PC:
Operating system: Windows 7
LCD Monitor, 17
Sorting function:
PSS Uniformity / Reflectance mapping
Power supply: 220 V, 30 A, 3-Wires
CDA: 0.2 ~ 0.4 Mpa
2013 vintage.
EM ETAMAX UniMAPは、半導体ウェーハの包括的な解析と特性評価を提供するために設計された最先端のウェーハ試験および計測機器です。このシステムは、高度な電磁(EM)試験機能を備えており、最新の技術を活用して、半導体製造プロセスに精密で信頼性の高い結果を提供します。UniMAPユニットは、半導体ウェーハの品質と性能を保証するために不可欠な幅広い試験および計測機能を提供します。導電率、誘電率、誘電率など、ウェーハの様々な電磁特性を測定することができます。これらの測定は、デバイス製造に使用される半導体材料の電気的および物理的特性を評価するために重要です。EM ETAMAX UniMAPマシンの主な特徴の1つは、高い測定精度と感度です。このツールは、高度なセンサ技術と信号処理アルゴリズムを使用して、厳しい半導体製造環境でも正確で信頼性の高い測定を実現します。これにより、半導体メーカーは、重要な意思決定プロセスのために資産によって生成されたデータを信頼できるようになります。UniMAPモデルは、電磁試験機能に加えて、ウェーハ特性を評価するための包括的な計測機能も提供しています。この装置は、高い精度とスループットでウェーハの地形解析、厚さ測定、欠陥検出を行うことができます。これにより、半導体メーカーは製造プロセスの初期段階でウェーハの問題を特定し、歩留まりと製品品質を改善するために必要な調整を行うことができます。EM ETAMAX UniMAPシステムのもう一つの重要な側面は、その汎用性と柔軟性です。このユニットは、半導体製造で一般的に使用されるさまざまなウエハサイズとタイプに対応するように設計されており、幅広い用途に適しています。UniMAPマシンは、製造メーカーがシリコンウェーハ、化合物半導体、またはその他の材料を使用しているかどうかにかかわらず、プロセス最適化のための正確で信頼性の高いデータを提供することができます。さらに、EM ETAMAX UniMAPツールには、ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェイスと直感的なコントロールが搭載されており、オペレータは簡単にテストを設定し、データを分析し、レポートを生成することができます。また、他の製造設備との自動化と統合をサポートし、試験および計測プロセスを合理化して効率と生産性を向上させます。全体として、UniMAPモデルは、ウェーハテストと計測機能を強化しようとする半導体メーカーにとって強力なツールです。高度なEM試験技術、包括的な計測機能、ユーザーフレンドリーな設計により、製造メーカは半導体製造においてより高いレベルの品質管理、プロセス最適化、製品性能を達成することができます。
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