中古 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234110 を販売中

E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Qは、半導体業界における複雑なウエハーなどの測定・分析を可能にする先端技術を用いて構築されたウェハテストおよび計測機器です。このシステムは、薄膜と複雑な表面測定の両方に必要な、一貫した高精度で正確な測定を目的として設計されています。E+H METROLOGY MX 204-8-37-Qユニットは、垂直オーバーハングやステップ高さ変動などの3D表面形状の正確な測定に優れた精度と解像度を持つ共焦点測定技術を使用しています。直径200mmまでのウェーハ測定が可能で、迅速かつ信頼性の高い基板交換用のクイックリリースウェーハホルダーを備えています。さらに、測定ステーションは、特定のテスト要件を満たすために、複数の目的とプローブ構成の使用に対応できます。このツールはまた、平面とステップの両方のサーフェスを高速かつ正確に測定するために特別に設計されたロータリーステージを備えています。多種多様な光学システム、選択可能な微細操作ステージ、高度なパターン認識アセットを備えており、特定の機能と測定の識別、選択、サイズを自動化します。パワフルなPCに接続されたハイエンドビデオカメラを搭載した高速画像取得モジュールを搭載し、高解像度のデータをさまざまな形式でキャプチャして保存できるため、結果の転送や解析が容易になります。また、最先端のプログラムインターフェイスが統合されており、精度測定を処理するための動的でインタラクティブなユーザーインターフェイスを作成するタスクを簡素化します。全体的に、E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Qは、高精度で再現可能な測定を優れた精度で提供できる効果的なウェーハ試験および計測機器です。幅広い機能と高度な技術により、このシステムはあらゆるウェーハ試験および計測アプリケーションに理想的なソリューションを提供できます。