中古 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234109 を販売中
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ID: 9234109
ヴィンテージ: 2007
Wafer measurement system
Square / Pseudo-square: 125-156 mm
Gauge type: MX 204-8-25-q
Thickness range: 200 - 600 μm
Real: 180 - 600 μm
CE Marked
2007 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Qは、ウェーハやその他の基板を迅速に分析するために設計された、完全に自動化された自己完結型ウェーハ試験および計測機器です。この革新的なシステムは、特殊なハードウェアとソフトウェアを使用して、卓越した精度と再現性を備えたウェーハ基板の地形、厚さ、エッチング深さ、電気特性などを測定します。このユニットは多軸ガントリーマシンで構成されており、さまざまなウェーハ材料やアプリケーションに合わせた測定ツールをサポートしています。圧力および温度制御ガスキャビネットは、安定した熱的に制御された試験環境を提供し、複数の測定の精度と再現性が環境条件によって損なわれないようにします。このツールは、光学プロファイラ、干渉計、電気検査システムなどのさまざまなツールを使用して、自動フィーチャー認識(AFR)やその他の高度な測定を実行できます。AFRは、デジタルイメージングとアルゴリズムに基づいて表面フィーチャーの変化を自動的に検出し、表面粗さ、エッチング深さ、厚さ、およびさまざまな電気特性を含む50以上のパラメータを測定できます。ソフトウェアパッケージは、事前測定から後処理、レポート作成まで、測定プロセス全体を処理できます。複数のツールからデータを自動的に取得、保存、処理し、データを分析してトレンドを検出できます。これにより、生産上の問題を迅速に特定することができ、面倒な手作業によるレビューと分析の必要性がなくなります。資産とそのソフトウェアの人間工学に基づいた設計は、セットアップ、操作、メンテナンスを迅速かつ簡単に行います。モータ駆動のウェーハ処理モデルは、1時間あたり約500個のウェーハで高速測定が可能です。E+H METROLOGY MX 204-8-37-Qは、高精度で再現性のあるテスト性能を必要とする半導体デバイスメーカーにとって理想的なソリューションです。また、費用対効果も高く、あらゆる生産環境にとって大きな投資となります。
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