中古 E+H METROLOGY MX 203-6-33 #9360725 を販売中
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ID: 9360725
ウェーハサイズ: 4"-6"
ヴィンテージ: 2008
Wafer measurement system, 4"-6"
Power supply: 240 VAC
2008 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 203-6-33は、強力で信頼性の高いウェーハ試験および計測機器です。半導体および特殊プロセスアプリケーションの両方で高精度の測定と分析を提供するように設計されています。このシステムは、1200 µmの範囲内で迅速かつ正確な移動が可能な6軸ロボット化ステージを備えています。このロボットは、ウェーハのスキャンとイメージングを数分で可能にします。クローズドループサーボユニットを使用してスキャン中の位置を維持し、反復可能なマルチダイスキャンが可能です。MX 203-6-33はまた、高解像度のデジタルイメージングマシンを備えています。イメージングツールは、最大15メガピクセルの解像度で各ダイの画像をキャプチャすることができます。デジタルイメージング資産は、画像分析のための強力なツールも提供します。コントラストとエッジ検出、ピクセル強度解析、形状認識、パターン認識などがあります。イメージングに加えて、E+H METROLOGY MX 203-6-33は、さまざまなウェハ特性測定を行うことができます。これらには、抵抗、静電容量、漏れなどの電気的パラメータ、および表面プロファイルや検査などの物理的パラメータが含まれます。ウェーハ表面の小さな欠陥でも1ミクロン以下のサイズで測定可能です。MX 203-6-33は、機器の動作を制御し、測定結果を分析するためのソフトウェアスイートも提供しています。マルチサイトメモリ、リモコン、トレンド分析など、いくつかの高度な機能が含まれています。ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、測定値の設定や結果の表示が容易になり、研究開発ラボに最適です。全体として、E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 203-6-33は、優れた信頼性の高いウェハテストおよび計測ユニットです。幅広い機能を備えており、さまざまなタスクに適しています。堅牢な機能と使いやすさを備えており、ウェーハテストと計測機能を向上させたいあらゆる施設に最適です。
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