中古 CHAPMAN MP2000+ #9361806 を販売中

CHAPMAN MP2000+は、高度なウェーハ試験および計測機器です。ウェーハ上のサブミクロンの特徴を正確に測定し、特性を評価するとともに、さまざまな重要な測定およびテストを提供するように設計されています。このシステムは完全に自動化され、最先端のイメージング、計測、サンプル処理システムが統合されています。超精密な高度なモーションプラットフォームは、フォトマスクやウェーハなど、さまざまな基板上の微細な特徴を迅速かつ正確に特徴付けることができます。MP2000+は、ウェーハ上部に測定座標をすばやく正確に配置するために、4軸の位置決めステージを使用しています。この駆動ユニットは、幾何学的およびオーバーレイドグレーティングスケールによって駆動され、個々の測定においてウェーハの非常に正確なアライメントと位置決めを可能にします。レーザー干渉計はXYZの位置の段階機械のための正確な位置のフィードバックおよびブレーキ訂正を提供するのに使用されてあらゆるテストのためのサブミクロンの決断そして反復性を可能にします。このツールには高解像度の顕微鏡イメージング資産も含まれており、ユーザーはウェーハ上の機能をリアルタイムで視覚化することができ、ウェーハのレイアウトと構造を詳細に確認できます。顕微鏡のCCDカメラは、ウェーハ表面から放射される光を検出し、モニター上に画像を表示して即座に表示および操作します。さらに、CHAPMAN MP2000+は、マイクロ構造を測定、ステッチ、測定するための強力な20Wレーザー干渉計を備えています。この強力な検出モデルは、各テストの最高精度を保証し、サブミクロンの検出とウェーハ上の特徴の分析を可能にします。さらに、内蔵の20Wレーザー励起装置により、ユーザーはバンプ、傷、腐食などの追加の表面機能を検出して測定することができます。最後に、このシステムは、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスと組み込みの分析ツールを備えた高速データ取得と処理を備えています。これにより、ユーザーは瞬時に結果を得ることができ、詳細なプロセス制御とウェーハのパフォーマンスに関するリアルタイムの洞察を得ることができます。要約すると、MP2000+は、半導体製造用に設計された強力なウェーハ試験および計測ユニットです。最先端の動き、イメージング、計測、サンプルハンドリング技術を統合し、最も正確なウェーハ測定を実現します。レーザー励起および干渉計システムは、比類のない精度と解像度を提供し、データ収集とグラフィカルユーザーインターフェイスにより、瞬時のテスト結果とリアルタイムプロセス制御を可能にします。