中古 CDE RESMAP 273 #293767239 を販売中

製造業者
CDE
モデル
RESMAP 273
ID: 293767239
ウェーハサイズ: 12"
Resistivity mapping system, 12" Maximum throughput: 1 Min Measurement range: 2 mΩ to 5 mΩ Minimum edge exclusion: 1.5 mm Mapping patterns: Polar map Rectangular map Line scan Plots: Contour Histogram 3-D Line Data map Data sequence Radial Angular distributions PC Operating system: Windows XP.
CDE RESMAP 273は、ウェーハ上のさまざまなパターン構造の物理的および電気的特性を高スループットで分析するために設計されたウェーハ試験および計測機器です。高解像度CCDイメージングシステムを使用して、最大10マイクロメートルの精度で回路上のパターン化された特徴をマッピングし、最大3mmのサイズの構造を測定できます。高度なソフトウェアを使用してウェーハ表面の特徴を正確に分析し、線幅、線端、突起、表面粗さなどのパラメータを測定できます。イメージングに関しては、最大10倍の倍率でウェーハを高解像度で撮影できるように設計されたレンズを搭載しています。さらに、このツールには高感度照明アセットが含まれており、あらゆるタイプのパターンの高コントラスト画像を生成するための広範囲の最大輝度ライトを提供します。イメージングモデルには、ウェハチャックを取り外して交換可能なウェハチャックが含まれています。装置のデータ分析機能は、広範囲にわたる構造物の電気的および物理的特性を正確に測定できる高度なソフトウェアアルゴリズムに基づいています。これには、線端や突起などの構造を自動検出するアルゴリズムや、フィーチャーサイズの正確な測定が含まれます。さらに、ウェーハの製造に最適なプロセスパラメータを決定するために、抵抗およびエッチング抵抗データを分析することができます。また、ウェーハ表面の測定にレーザー干渉計を使用した自動校正機を搭載しています。これにより、フィーチャーサイズの正確な測定と、イメージングツールの正確なアライメントが可能になります。アセットには、プロセス機器からパフォーマンスデータを収集するためのソフトウェアインターフェイスも含まれています。全体として、RESMAP 273はウェーハ上の様々な構造の高スループット解析用に設計された先進モデルです。装置の高度なイメージングおよびデータ分析機能、および自動校正およびパフォーマンス監視機能により、ウェーハの製造に最適なツールとなります。
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