中古 ASML Overlay measurement system #293672253 を販売中

ASML Overlay測定装置は、半導体業界で使用されるウェーハ試験および計測システムです。これは、半導体ウェーハ上の重要な特徴の位置および/またはオーバーレイを測定するために、機械、光学、および光学/機械計測機能を組み合わせています。このユニットは、ウェーハ上の異なるフィーチャー間、または異なるウェーハ間のアライメントを非常に正確に測定することができます。高精度のスキャンステージと高解像度のエンコーダを使用してウェーハを正確に配置し、さまざまな角度でパターンを測定できます。ウェーハデータを取得するために使用される測定ヘッドは、レーザー、象限検出器、およびフィルターホイールアセンブリで構成されています。高解像度の電動ウェーハハンドラは、複数のウェーハのアライメントとテストに役立ちます。オーバーレイ測定ツールは完全に自動化されており、生産量に対応できます。専用のロボットウェーハハンドリングツールを活用して、1サイクルで複数のウェーハを処理することができ、ウェーハあたり数千点を測定することができます。また、この測定モデルは、定期的なメンテナンスと専用ソフトウェアソリューションによるダウンタイムを最小限に抑え、信頼性の高い設計となっています。ASML Overlay測定装置のデータ取得は、軸外後方散乱型MoiréまたはOASMによって行われます。この技術は、2つのパターン間のオーバーレイとアライメントを測定するために使用されます。OASMは、ビームスプリッターを介してレーザーシャーニングを使用して、光を2つのパスに分割します。1つのビームは、2つの層のアライメントを測定するために回転する格子を介して偏向されます。2番目のビームはパターンをスキャンして地形データを提供します。このデータは、結果を計算するために使用されます。測定されたウェーハデータは、さまざまな種類のビジュアライゼーションを使用して、いくつかの形式で表示されます。データを使用すると、オーバーレイ、ミスアライメント、クリティカル寸法などの測定値をすばやく比較できます。また、CD結果の分析を可能にし、収量を改善するためのアクションに関する貴重な推奨事項を提供します。オーバーレイ測定システムは、ウェーハ試験および計測に柔軟性、精度、信頼性をもたらす半導体製造に最適です。幅広い測定機能と高度なデータ分析ツールを費用対効果の高いパッケージで提供します。