中古 AMAT / APPLIED MATERIALS VeraSEM 3D #9123516 を販売中

ID: 9123516
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2001
Automated CD metrology system, 8" Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat) Wafer cassette: 8" PP (Miraial) Electron optical system: Electron gun SCHOTTKY emission source (FEI) Accelerating voltage: 300 V - 2000 V Prober current: Low 5pA / Medium 10pA / High 20pA (3) Electromagnetic lenses System with boosting voltage beam deflector module. Objective lens: Scan coil (2) stage electromagnetic deflection (X, Y) Magnification: 1,000x to 400,000x (100 um to 0.25 um) Aspect ratio: >14 : 1 Tilt function: 5° (4 Directions) Resolution: 3 nm (500 V) Optical microscope systems: Camera monochrome with CCD camera Magnification: 16x / 220x (450 um / 6000 um) Wafer imaging ability entire surface, 8" SECS / GEM Communication interface: Automated image archiving function Measurement function: Contact hole Line edge analysis / CH Analysis / Slope Measurement algorithm normal / Foot / Threshold Wafer stage anorad X, Y and Z stage Moving speed: 300 mm / sec Function target faraday cup / Resolution target Wafer shape ability notch / Orientation flat Pre-alignment sensing CCD bar, 8" External power distribution unit Fun filter unit 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS VeraSEM 3Dは、最先端のウェーハ試験および計測機器です。高度な光学顕微鏡技術と計測機能を組み合わせ、半導体ウェーハの高精度で非破壊的な3D特性評価と解析を提供します。この強力な組み合わせにより、同一チップ内および複数チップ間でのウェーハの正確かつ再現性の高い特性評価が可能になります。AMAT VeraSEM 3Dは、半導体ウェーハのナノスケール特性を高精度かつ高精度に素早く測定・解析できるように設計されています。このシステムは、ウェーハ表面の画像を取得するために、短い波長範囲の高性能で敏感なCCDカメラを使用しています。これにより、ユーザーは顕微鏡の特徴を正確に分析し、その位置と寸法を監視することができます。画像は、オーバーレイ、CD、線幅、ビア、ピットなどの機能を検出および測定できる専用ソフトウェアパッケージに保存および分析されます。アプライドマテリアルズVeraSEM 3Dには、平坦度、粗さ、形状などのウェーハ表面の特徴を正確に測定するための統合計測ユニットも含まれています。このマシンは、高度なアルゴリズムとコンピュータ制御レーザースキャンを使用して、線幅、ピッチ、表面ステップ、半導体デバイスのギャップなどの幅広い機能を測定します。このツールはまた、困難な環境でもウェーハ表面の欠陥を見つけて分析できる高度なパターン認識アルゴリズムをサポートしています。これにより、ウェーハの欠陥を高精度で素早く検出・定量化し、半導体デバイスの信頼性と品質を向上させることができます。VeraSEM 3Dの強力な顕微鏡と計測機能を組み合わせることで、ウェーハの製作とモニタリングに理想的なソリューションとなります。この資産の性能は電子顕微鏡に匹敵しますが、はるかに高速で使いやすく、半導体業界のお客様にとって非常に魅力的です。
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