中古 ADE / KLA / TENCOR CR81e #293771795 を販売中
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ID: 293771795
ヴィンテージ: 2003
Wafer inspection system
(4) Cassette stations
BROOKS AUTOMATION Load SMIF Robot arm
BROOKS AUTOMATION Unload SMIF Robot arm
KENSINGTON Robot with controller
Inspection stage with optical module
Vacuum: 21 SCFH at 26" Hg
CDA: 81 PSI, 200 cu in/hr min
General exhaust: 4" Duct, 400 CFM
SSL Laser
PSL Calibration
Particle sensitivity:
120 nm LSE
105 nm LSE
Spare parts for CR81e:
Part number / Description
12051137 / LAMBDA Power supply box
12051333 / Dark R268PMT group
12051134 / Bright channel light vacuum tube
12058488 / Air pressure
12051338 / Dark channel arc mirror
12051339 / Focal lengh lens 100MMFL 25.4 mm
12051340 / Robatic arm set
12051513 / Standard wafer supporter
122052995 / PMT Air traffic controller 0092493-001
120562228 / Collection group 398-20281-1
12058498 / KENSINGTON Arm tip
12058499 / KENSINGTON Edge alignment chuck
12114222 / 68060 array processing board 398-20406-1
12114223 / Bright channel analog board CH-0398-20883-1
12114226 / Bright channel analog board CH-1398-20884-1
12114227 / HAZE Tablet 398-20705-1
12114228 / Daek channel X-Axis plate (12BIT) 398-20733-1
12115229 / Bright channel X-Axis plate 398-20630-1
12114231 / Bright channel X-Axis plate CH-1398-20706-1
12114232 / Origin of the pulse plate 398-20841-1
12149175 / CCD Signal transmission board, Robatic arm, 03142
121499223 / CCD Brush, Robot arm, 031409-27
12178367 / Oppsosite signal receiving board, 031409-08
Power supply: 208 VAC, 30 Amps, 47-63 Hz, 3 Phase
2003 vintage.
ADE/KLA/TENCOR CR81eは、半導体業界向けに設計された先進的なウェーハ試験および計測機器です。半導体ウェーハの特性評価と分析に関する包括的な一連の機能を提供し、その上で生成される集積回路（IC）の最高品質と性能を保証します。ADE CR81eは、半導体製造におけるプロセス制御および歩留まり管理のための正確で信頼性の高いデータを提供するために、さまざまな測定技術を統合した高度なツールです。KLA CR81eシステムの主な特徴の1つは、半導体ウェーハの非破壊試験を行うことです。これは、ウェーハの特性を損傷することなく分析できることを意味し、製造メーカーは材料の無駄を最小限に抑え、コストを削減することができます。この機械は、厚さ、地形、欠陥密度、電気性能などのウェーハの重要なパラメータを評価するために、光学、電気、物理測定技術を組み合わせて使用します。TENCOR CR81eには、ブライトフィールド、ダークフィールド、共焦点顕微鏡などの高度なイメージング機能が搭載されており、ウェーハの構造と形態を高解像度で可視化します。これにより、ウェーハの表面品質、パターンの均一性、欠陥を精度と精度で検査することができます。また、画像解析アルゴリズムを自動化し、大量のデータを素早く処理して欠陥を特定し、分類して分析することができます。CR81eは、イメージングに加えて、光発光やラマン分光などの高度な分光技術を用いてウェーハの化学組成や結晶構造を解析しています。これらの技術は、ウェーハに存在する材料特性、ドーパント濃度、および構造欠陥に関する貴重な情報を提供します。このアセットは、迅速で敏感な測定を実行してウェーハの組成や構造の微妙な変化を検出することができ、製造メーカーはプロセスを最適化してパフォーマンスと歩留まりを向上させることができます。さらに、ADE/KLA/TENCOR CR81eには、原子力顕微鏡（AFM）や楕円測定などの高度な計測ツールが組み込まれ、ナノメートルスケールの精度でウェハの物理的寸法と光学特性を測定します。これらのツールは、半導体製造における層の成膜およびエッチング工程を制御するために不可欠なウェハの表面粗さ、膜厚、屈折率を評価することができます。このモデルは、ウェーハプロパティの詳細な2Dおよび3Dマップを生成し、デバイスのパフォーマンスに影響を与える可能性のあるプロセスのバリエーションと欠陥について貴重な洞察を提供します。全体として、ADE CR81eは包括的なウェーハテストおよび計測機器であり、半導体メーカーがウェーハの品質と信頼性を評価するための幅広い機能を提供します。高度なイメージング、分光、計測技術により、ウェーハの特性を正確に評価し、製造プロセスの最適化、デバイス性能の向上、半導体生産の歩留まり向上に貢献します。KLA CR81eは、半導体製造における品質管理とプロセス最適化のための強力なツールであり、市場での高度な半導体デバイスの成功を確実にするために不可欠な資産です。
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