中古 ADE / KLA / TENCOR AFS 3220 #9055341 を販売中

ADE / KLA / TENCOR AFS 3220
ID: 9055341
Wafer surface measurement system.
ADE/KLA/TENCOR AFS 3220ウェハテストおよび計測機器は、半導体加工の現状に使用されるツールの包括的なセットです。ウェーハの欠陥を検出し、コストを削減し、歩留まりを向上させるための非常に効率的で正確な検出システムで設計されています。ADE AFS 3220ユニットには、高度な欠陥レビューマシン、自動表面特性評価ツール、自動焦点認識アセット、およびキーパラメータを測定するための複数の自動制御システムなど、いくつかのコンポーネントが含まれています。高度な欠陥レビューモデルは、多数のカメラを使用してテストウェーハ表面の欠陥を検出および分析します。これは、傷、粒子、汚染、誤植された特徴、アライメントの不一致、不完全なリピート構造、およびその他のプロセス関連の問題など、マイナーから主要な欠陥まで、事実上すべての可能な欠陥を識別することができます。また、ウェーハ上の欠陥重大度とその位置の詳細な分析も提供します。この自動表面特性評価装置は、表面粗さ、平坦度、均質性、接着性、および表面損傷などの重要なウェーハ表面パラメータを測定するために使用されます。このシステムは、ウェーハの電気的、機械的、化学的特性に関連するさまざまなパラメータを測定し、正確な値を提供することができます。自動焦点認識ユニットは、ウェーハの焦点を自動的に調整し、正確な測定を保証します。また、リアルタイムのフィードバックを提供することができ、機械は急速に変化する半導体製造のステップに追いつくことができます。これらのコンポーネントに加えて、KLA AFS 3220ツールには、温度、湿度、圧力などのさまざまなパラメータを測定するための複数の自動制御システムがあります。これらの制御システムにより、オペレータは安全で一貫した処理環境を維持することができます。TENCOR AFS 3220アセットは、ウェーハ表面のさまざまな欠陥および特性を検出および分析するために設計された非常に汎用性の高いモデルです。欠陥検査、プロセス制御、歩留まり向上など、数多くの用途に使用できます。自動化されたコンポーネントにより、正確で効率的で迅速な欠陥検出と解析が可能になり、歩留まりの向上とコストの削減が可能になります。
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