中古 LAM RESEARCH Sabre 3D #9269753 を販売中

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製造業者
LAM RESEARCH
モデル
Sabre 3D
ID: 9269753
Plating system, 12" Process: RDL Operating system: Windows XP Footprint: Front end and back end robot Wafer aligner CDM for APT module CDM for XMM module PPT Module (2/4) Plate A duet (1/2) Bath module 1 Plate A flow distribution (1/2) PMA Bath configuration: AANN CE System settings: Pod loader with buttons and lights-PS Notch wafer, 12" Standard polarity Signal tower EIOC Support Advanced FA GEM and data server HSMS Host connection SEMI E84 Automated material handling system Wafer history Proteus configuration Facilities chemical interface Single arm front end robot Dual arm back end robot Real time clock timestamp source Wafer aligner CWS Wafer size detection Single clamshell lift controller CE Module front end settings: IOC Type: Ethernet based IOC (25) Wafers per cassette SEMI E84 Automated cassette transfer Active wafer centering CA Event mode (3) Load ports Traverser (slide axis) vacuum robot Ethernet pod loader communication Extended fix loader command mode With pod present sensor Standard fix loader hardware With pod present sensor Default AMHS setting Serial Port RFID communication PPT2 AWC Enabled checking firmware Robot pod loader map source Pod loader, 13" CE Module CDM for APT module: ADM Process delivery: DI Process CE Module CDM for XMM module: PCDM Module type: SRD Configuration module CE Module PPT module 2: Notch wafer, 13" Post treatment PPT module PPT Tank type: ADM Process DI Super cell configuration: SRD Valve position sensors DI Flow meter CE Module PPT module 4: Notch wafer, 13" Post treatment PPT module type Super cell configuration: SRD Active Wafer Detection (AWD) Valve position sensors DI flow meters N2 Dry CE Module plate A duet 1 and 2: Notch wafer, 13" Cup and contact rinse Separate Anode Chamber (SAC): Cascade Serial plating power supply control Single power supply Cell flow meters: 5 to 50 Liters 88 I/O EIOC Valve position sensors SAC Flow meter Standard SAC pump CE Module bath module 1: Chemical Monitoring System (CMS) Enhanced CMS command set Copper chemical package Multi species dosing algorithm (5) Species Separate Anode Chamber (SAC): Cascade Chemistry tray container bottles (3) Organic dosing containers NESLAB Heater chiller VMS Facility request channel 1 Pump organic dose delivery Dose pump flow switch 88 I/O EIOC Central recirculation pump Renner recirculation pump Bath module 1 CE Module plate-A flow distribution 1 and 2: FDM Flow meter: 0 to 80 LPM Independent FDM pump Central recirculation pump No PMB Bath 2017 vintage.
LAM RESEARCH Sabre 3Dは、30ナノメートルのサイズの特徴を持つ3次元構造を生成することができる高速、直接書き込み電子ビームリソグラフィ装置です。特許出願中のユニークなフィールドフリー電子ビームソースを使用しており、速度、解像度、パターン忠実度において比類のない性能を発揮します。Sabre 3Dシステムは、真空チャンバー、電動ステージおよびウェーハホルダー、電子ビーム源、イメージングユニット、および制御コンピュータで構成されています。真空チャンバーは、電子ビームがウェーハに近づかないように移動するために必要な高真空(~ 10-9 torr)の雰囲気を作り出します。電動ステージはチャンバー内にサンプルウェーハを配置し、ウェーハホルダーはウェーハを所定の位置に保持します。この電子ビームは、場の散乱とたわみを最小限に抑える、場のない電子カラムで生成され加速されます。このビームは、ウェーハ上のパターンをイメージする電気光学イメージングマシンを通過します。このツールには、必要な信号処理とイメージングアセットおよびウェーハステージの制御を提供する制御コンピュータも含まれており、デバイス固有のパターンジェネレータにリンクされています。これにより、ユーザーは希望するパターンを定義し、モデルに入力することができます。ユーザーは、コントロールコンピュータ上の直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスで機器を簡単に操作して校正することができます。LAM RESEARCH Sabre 3Dシステムは、半導体材料を含むあらゆる材料で作られたウェーハ上で非常に高解像度のパターンを撮影することができます。また、最大15keVの焦点電子ビームエネルギーと最大100nAのビーム電流を備え、パターン書き込み速度は最大175ウェーハ/時間です。これにより、30 nmのサイズの3次元構造を作成することができます。Sabre 3Dユニットは、特にナノスケール構造を含む新しい材料や製造プロセスの研究開発にとって貴重なツールです。このマシンは、原子的に精密な製造によって引き起こされる課題に費用対効果の高い高性能ソリューションを提供します。究極の精度とスピードを必要とする研究者やメーカーに最適です。
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