中古 LAM RESEARCH Sabre 3D #9269753 を販売中
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販売された
ID: 9269753
Plating system, 12"
Process: RDL
Operating system: Windows XP
Footprint:
Front end and back end robot
Wafer aligner
CDM for APT module
CDM for XMM module
PPT Module (2/4)
Plate A duet (1/2)
Bath module 1
Plate A flow distribution (1/2)
PMA Bath configuration: AANN
CE System settings:
Pod loader with buttons and lights-PS
Notch wafer, 12"
Standard polarity
Signal tower
EIOC Support
Advanced FA GEM and data server
HSMS Host connection
SEMI E84 Automated material handling system
Wafer history
Proteus configuration
Facilities chemical interface
Single arm front end robot
Dual arm back end robot
Real time clock timestamp source
Wafer aligner
CWS Wafer size detection
Single clamshell lift controller
CE Module front end settings:
IOC Type: Ethernet based IOC
(25) Wafers per cassette
SEMI E84 Automated cassette transfer
Active wafer centering
CA Event mode
(3) Load ports
Traverser (slide axis) vacuum robot
Ethernet pod loader communication
Extended fix loader command mode
With pod present sensor
Standard fix loader hardware
With pod present sensor
Default AMHS setting
Serial Port RFID communication
PPT2 AWC Enabled checking firmware
Robot pod loader map source
Pod loader, 13"
CE Module CDM for APT module:
ADM Process delivery: DI Process
CE Module CDM for XMM module:
PCDM Module type: SRD Configuration module
CE Module PPT module 2:
Notch wafer, 13"
Post treatment PPT module
PPT Tank type: ADM Process DI
Super cell configuration: SRD
Valve position sensors
DI Flow meter
CE Module PPT module 4:
Notch wafer, 13"
Post treatment PPT module type
Super cell configuration: SRD
Active Wafer Detection (AWD)
Valve position sensors
DI flow meters
N2 Dry
CE Module plate A duet 1 and 2:
Notch wafer, 13"
Cup and contact rinse
Separate Anode Chamber (SAC): Cascade
Serial plating power supply control
Single power supply
Cell flow meters: 5 to 50 Liters
88 I/O EIOC
Valve position sensors
SAC Flow meter
Standard SAC pump
CE Module bath module 1:
Chemical Monitoring System (CMS)
Enhanced CMS command set
Copper chemical package
Multi species dosing algorithm
(5) Species
Separate Anode Chamber (SAC): Cascade
Chemistry tray container bottles
(3) Organic dosing containers
NESLAB Heater chiller
VMS Facility request channel 1
Pump organic dose delivery
Dose pump flow switch
88 I/O EIOC
Central recirculation pump
Renner recirculation pump
Bath module 1
CE Module plate-A flow distribution 1 and 2:
FDM Flow meter: 0 to 80 LPM
Independent FDM pump
Central recirculation pump
No PMB Bath
2017 vintage.
LAM RESEARCH Sabre 3Dは、30ナノメートルのサイズの特徴を持つ3次元構造を生成することができる高速、直接書き込み電子ビームリソグラフィ装置です。特許出願中のユニークなフィールドフリー電子ビームソースを使用しており、速度、解像度、パターン忠実度において比類のない性能を発揮します。Sabre 3Dシステムは、真空チャンバー、電動ステージおよびウェーハホルダー、電子ビーム源、イメージングユニット、および制御コンピュータで構成されています。真空チャンバーは、電子ビームがウェーハに近づかないように移動するために必要な高真空(~ 10-9 torr)の雰囲気を作り出します。電動ステージはチャンバー内にサンプルウェーハを配置し、ウェーハホルダーはウェーハを所定の位置に保持します。この電子ビームは、場の散乱とたわみを最小限に抑える、場のない電子カラムで生成され加速されます。このビームは、ウェーハ上のパターンをイメージする電気光学イメージングマシンを通過します。このツールには、必要な信号処理とイメージングアセットおよびウェーハステージの制御を提供する制御コンピュータも含まれており、デバイス固有のパターンジェネレータにリンクされています。これにより、ユーザーは希望するパターンを定義し、モデルに入力することができます。ユーザーは、コントロールコンピュータ上の直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスで機器を簡単に操作して校正することができます。LAM RESEARCH Sabre 3Dシステムは、半導体材料を含むあらゆる材料で作られたウェーハ上で非常に高解像度のパターンを撮影することができます。また、最大15keVの焦点電子ビームエネルギーと最大100nAのビーム電流を備え、パターン書き込み速度は最大175ウェーハ/時間です。これにより、30 nmのサイズの3次元構造を作成することができます。Sabre 3Dユニットは、特にナノスケール構造を含む新しい材料や製造プロセスの研究開発にとって貴重なツールです。このマシンは、原子的に精密な製造によって引き起こされる課題に費用対効果の高い高性能ソリューションを提供します。究極の精度とスピードを必要とする研究者やメーカーに最適です。
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