中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9266424 を販売中
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販売された
ID: 9266424
ヴィンテージ: 1995
Sputtering system, 6"
Chamber type:
Chamber A: AL
Chamber B: AL
Chamber C: PC-II
Chamber D: TiTiN
Chamber E (Orient / Degas)
Chamber F (Orient / Degas)
Chamber A:
Heater type: 4F
Source type: 11.3"
Body: STD
Adaptor: STD
Manometter: Single 0.1 torr (6274A)
Ion gauge: Nude
Lift cylinder: STD
Basic motorize
Gate vavle: 2P
Cryo pump: EHN-OB8F
Chamber B:
Heater type: 4F
Source type: 11.3"
Body: STD
Adaptor: STD
Manometter: Single 0.1 torr (6274A)
Ion gauge: nude
Lift cylinder: STD
Basic motorize
Gate vavle: 2P
Cryo pump: EHN-OB8F
Chamber D (PVD):
Heater type: 101
Source type: 11.3"
Body: STD
Adaptor: STD
Manometter: Single 0.1 torr (6274A)
Ion gauge: nude
Lift cylinder: STD
Basic motorize
Gate vavle: 3P
Cryo pump: EHN-OB8F
Chamber C (PC-II):
Resonator: STD
Body: Turbo
Basic pedestat
Turbo adaptor: Short
Manometter: Single 0.1 torr (6274A)
LEYBOLD 361C Turbo pump
Match box: 6"
Lift cylinder
Electrical requirements:
Controller type: Centura standard
Electrical interface: Top feed AC cable
Main frame:
Type: Main frame I
System placement: Stand alone
Robot type: HP Robot
Robot blade: NICKEL Coated AI
Loadlock:
Loadlock cassette: Wide body
Index type: With rotation
Cassette handler: Metal
Basic loadlock wafer mapping
Dual stage vent type
Gas delivery:
Filters:
Veriflo 10 Ra Max
Pall
Generator:
Chamber A:
MDX Power: MDX-L12-650
Chamber B:
MDX Power:
MDX-L12M
MDX-L12
Chamber C: LF-10A Generator
CPS-1001S Missing
Chamber D:
MDX Power: MDX-L12
NESLAB-I Heat exchanger
(2) 9600 Compressors
Umbilicals:
MF - AC rack: 300"
Pumps:
System: A30W
PC-II: A07
Includes:
Serial isolator
System reset
Lk Det 5 and 6 / Conv / TC
(3) Lk Det 7 and 8 / Conv / TC
Floppy Disk Drive (FDD)
Hard Disk Drive (HDD)
Chamber A, B, C, D & E: Interface
Mainframe interface
Loadlock interface
Chamber A, B, C & D:
Dl/O 1
Dl/O 2
Chamber E: Dl/O
Synergy SBC
Video
SEI
Chamber A, B, C & D: Al/O
Chamber E/MF: Al/O 2
Mainframe:
Al/O 1
Dl/O 1
Dl/O 2
Dl/O 3
Dl/O 4
Dl/O 5
Dl/O 6
(3) Steppers
OMS
No shutter (Chamber A, B & D)
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD（物理蒸着）リアクターは、高度で高性能な薄膜蒸着機能を提供するように設計された次世代の蒸着装置です。この革新的なシステムは、複数の工具やチャンバーを介してさまざまな成膜レシピを提供し、プロセスの柔軟性と生産効率の向上に最適化されています。AMAT Centura HP PVD炉は、銅、アルミニウム、窒化チタンおよびタングステンを含むがこれに限定されない幅広い材料を堆積することができます。複数の選択可能なガスと不活性ガスを利用して、材料の源を正確に制御し、最適な薄膜蒸着に必要な完全な環境と圧力を作り出します。Select Source™ （SS）リニアアクセラレータとTurbo- Pumped™電源（TPP）により、プロセスに必要な反応圧力と温度が維持されます。APPLIED MATERIALTS Centura HP PVDユニットは、温度制御されたリフトオフ/エッチングモジュールと高温ベークを内蔵しています。このモジュールは、リフトオフおよびエッチング処理中に基板周囲の温度を自動的に制御し、不要な熱接触の影響を最小限に抑えるように設計されています。また、フィルムの成長とエッチング深さを正確にプロファイルするために、高速熱検査を備えています。優れたPVD機能の他に、Centura HP PVDリアクターは優れた稼働時間と生産性を提供するように設計されています。このマシンのモジュラー構成により、工具の読み込みが迅速かつ簡単になり、あらゆるスキルレベルのオペレータが簡単に使用できる強力なソフトウェアとグラフィックユーザーインターフェイスが付属しています。このツールには、ユーザーの時間と労力を節約することによって堆積プロセスを簡素化する自動レシピ機能も付属しています。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVDリアクターは、優れた薄膜蒸着能力と優れたプロセス柔軟性を提供する高度な蒸着資産です。温度制御されたリフトオフ/エッチモジュール、Select Source linear accelerator、 Turbo-Pumped電源、および自動化されたレシピ機能により、高性能の薄膜蒸着に最適なツールです。
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