中古 RIBER 401-1000 #293600163 を販売中

分子ビームエピタキシー（MBE）は、高品質の半導体材料を製造するための画期的な方法です。RIBER 401-1000は、高品質の薄膜の成長に使用される分子ビームエピタキシー装置です。原子スケールの厚さのいろいろな化合物の基質を作り出すのに使用することができます。これを実現するために、システムは複数のソースと成長チャンバーを含むプロセスを使用します。ソース側には、電子ビーム蒸発器、固体有機金属源、固体金属源、ガス割れの4つの独立したソースがあります。すべてのソースは強力なコンピュータインターフェースを介して制御され、材料制御とサンプル均質性の可能性を広げます。加熱された電子ビームは材料を蒸発させるために使用されますが、固体有機金属および金属源には試薬やドーパントが含まれており、成長室に導入することができます。成長の部屋はその場の熱処理の選択および速い管の暖まることおよび自動シャッターの位置のようないくつかの便利な特徴の調節可能な温度、圧力および流れ制御が、装備されています。これは、材料制御と基板の高い均質性のための包括的な可能性の範囲を提供します。このユニットはまた、温度制御された排ガス浄化チャンバーを備えており、成長チャンバーには非常に低いレベルの不純物しか存在しないことを保証し、高品質の材料の生産につながります。コンパクトフレームと低振動で構築された401-1000は、純粋な半導体材料とドープされた半導体材料の両方の成長のために設計されており、金属から合金、モノクリスタル基板まで幅広い基板を提供できます。この機械は、高度な半導体デバイスの製造に最適で、デバイス製造時に生成される構造、ドーパント、および欠陥密度を優れた制御を提供します。低振動プラットフォームにより、歪みや欠陥を発生させることなく高品質の材料やデバイスを製造することができます。また、プロセス内のスペクトル分析および検出ツールにより、生産プロセスの迅速な特性評価と監視が可能になります。それは研究および生産の適用のための優秀な用具です。