中古 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 #9211547 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2は、強化されたイメージングおよびスキャン性能と高度な欠陥検出および分類機能を組み合わせたマスクおよびウェハ検査装置で、すべてのマスクおよびダイ欠陥の迅速かつ正確な特性評価を可能にします。このシステムは、シングルズームまたはマルチレベル検査で異常を検出するように設計されています。それはまた、以前に見えなかった欠陥やプロセスの欠陥を検出する高度なアルゴリズムを提供しています。このユニットには、高解像度倍率およびイメージング用の統合レーザースキャナを備えたウェーハ/マスクビューアが含まれています。AMAT SemVision G2は小型で軽量で便利なフォームファクタを備えており、ベンチトップ環境と半導体ファブ環境の両方に最適です。コントラストを改善する高性能LED照明と、高速かつ正確な検査のための洗練された光学機器を備えています。統合されたウェーハ/マスク平坦度検査ツールにより、マスクとダイ表面が平面および仕上げ平準化されたままになります。このアセットは、さまざまな検査シナリオで利用可能なさまざまなオプションで、セットアップと校正が簡単に行えるように設計されています。これにより、ユーザーは数秒で大量のデバイスをすばやく検査できます。モデルの検査速度は、数分で最大100万枚のデバイスイメージをキャプチャすることができます。APPLIED MATERIALTS SemVision G2は、欠陥特性評価精度を向上させるための自動欠陥レビュー（ADR）もサポートしています。SemVision G2装置は欠陥イメージングにも対応しており、ウェーハ表面と断面マッピングの両方で欠陥の複数の画像を表示できます。これは、デバイスの形状、サイズ、位置に応じて欠陥を正確に分類するのに役立ちます。また、ルールベース、パターンマッチング、画像解析などのさまざまなタイプの欠陥検出アルゴリズムをサポートし、欠陥の識別と特性評価を向上させています。さらに、このユニットは、迅速かつ正確な欠陥検査のためのリアルタイムのコサイトイメージング機能も提供します。AMAT/APPLIED MATERIALTS SemVision G2マシンは、迅速なターンアラウンドタイム、優れた再現性、および正確な機器性能を提供します。統合されたエディタを使用すると、検査イメージをすばやく確認し、マスクとウェーハレイアウト図を作成し、画像のコントラストと明るさを調整できます。直感的なユーザーインターフェイスは、欠陥のカバレッジと欠陥の明確さに関する明確な情報も提供します。強化された機能とさまざまな機能を備えたAMAT SemVision G2は、マスクおよびウェーハ検査のニーズに最適なソリューションです。