中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-49247 #293821010 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 Reactorは、半導体材料、フォトレジスト、誘電体などの先進的な薄膜加工用に設計された最先端の装置です。高真空・低温環境と高度な材料ソースパネルを組み合わせた独自の構成により、薄膜の厚さ、組成、ステップカバレッジを正確に制御できます。AMAT Endura 2リアクターは、4つの低温ソースパネルに囲まれたメインチャンバーで構成されています。ソースパネルには、金属、酸化物、窒化物、ポリシリコンなどのさまざまな材料を取り付けることができ、正確な温度に加熱することができます。これにより、組成、ステップカバレッジ、熱抵抗などのフィルムの特性を制御することができます。さらに、これらのパネルは、超薄膜と複雑な成膜プロファイルの使用を容易にします。APPLIED MATERIALS Endura 2リアクター内部のメインチャンバーは、各コーナーに4つのターボ分子ポンプによって維持される高真空環境です。チャンバーの中央にある統合された石英プレートは、ソースとサンプルホルダーを取り付けて操作する堅牢なプラットフォームを提供します。チャンバー内の圧力は通常0。1〜0。2 mtorrの非常に低い範囲に低減され、不純物を含まない超高純度の蒸着が可能です。Endura 2の効果的な動作は、所望の範囲内の圧力を維持するために、ヘリウムやアルゴンなどの部分的なチャンバーフィルガスを必要とします。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 Reactorは、メインチャンバーに加えて、プロセス変数を正確に制御し、再現可能な結果を得るための統合制御システムを備えています。このユニットは、精密モーションコントローラとイーサネット通信を備えたXycom XPNT制御機を使用しており、ユーザーは薄膜の堆積のためにクラス最高のプロセスレシピデータをプログラムすることができます。AMAT Endura 2 Reactorの付加的な利点には、低い運用コスト、比較的小さなフットプリント、優れた清浄性が含まれます。環境責任を念頭に設計され、MPZ国際品質基準で広く認められた環境認証を取得しています。APPLIED MATERIALS Endura 2 Reactorは、高度な薄膜加工のための信頼性の高いコンピュータ制御プラットフォームを提供し、高品質の材料を堆積させるための正確で再現性のある低コストの結果を実現します。