中古 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375128 を販売中

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaNは、高度なGaNパワー半導体材料のエピタキシャル成長のための効率と能力の両方を兼ね備えた原子炉です。8インチまでの基板サイズで、このK465iは従来のSiCプロセスとGaNプロセスの両方で高効率で信頼性があります。この装置は、最先端のDirectView Opticsと自動化されたロボットを使用して、単一または両面の化学蒸着（CVD）プロセスから優れた材料使用率を生成します。このK465iは、最高の精度と汎用性を実現するコールドウォール技術を内蔵した頑丈な垂直マルチゾーンCS -II高温炉を備えています。効率的な加熱/冷却操作により、レイヤーの両方を安定させ、多層処理を可能にします。高度なコントローラは、温度または圧力を調整し、各層にわたって正確な目標値を確保するように設計されています。また、K465iには詳細なプロセスコントロールインターフェイス（PCI）があり、ユーザーはコンピューター支援設計（CAD）プログラムからカスタマイズされたレシピにアクセスできます。このアクセスにより、高速なシステムデバッグと初期性能特性評価が可能になり、プロセスパラメータやユニット圧力などの追加設定のプログラミングにも使用できます。また、シングルウエハまたはデュアルウエハ構成で簡単にウェーハ交換できるシャッターゲートを装備しています。このユニットは、生産に使用するために設計されており、業界をリードする信頼性と堅牢性を備えています。さらに、K465iは、3D、ヘテロ構造、および導電性の高いチャネルなどの高度な構造の開発をサポートしています。K465iは、強化された安全システムを利用し、予防メンテナンスサービスを含む長期サービス契約に裏打ちされており、機械が長期にわたって積極的に維持され、最適なパフォーマンスを発揮することを保証します。これらの高度な機能とサポートにより、VEECO TurboDisc K465i GaNは、優れたエピタキシャルGaN材料と構造を生産する組織に最適なソリューションです。