中古 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #293601651 を販売中

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactorは、高性能ガリウム窒化物（GaN）処理用に特別に設計された信頼性の高い強力な蒸着装置です。これにより、誰でもあらゆるプロセスで再現可能で一貫した結果を達成できます。このシステムは、TurboDisc （TD）技術を利用しています。これは、水平および垂直のサセプター回転と特許取得済みのDualRF™制御を組み合わせて、ツールとプロセスのフットプリント全体を最小限に抑えます。TD技術は、すべてのプロセスのホットスポットにわたって均一性と再現性を提供し、プロセス時間を最適化する高スループット冷却を提供します。このK465iは、クォーツフラットトップサセプターを使用する場合に最大限の柔軟性を得るために4段式カセットを使用しています。この原子炉には、自動可変基板バイアス（AVSB）制御や急速熱制御（RTC）などの高度なプロセス制御および監視機能が装備されています。AVSB制御は、温度に敏感な基板に最大350°Cの均一な蒸着を可能にし、RTCはチャンバ内のさまざまな部品を温度に応じて均一な温度に保ちます。また、K465iには自動化されたプロセスチャンバ洗浄（APCC）ユニットが装備されており、クリーンで濃縮された水素および窒素種の投与をチャンバー壁に正確に調整し、材料の蓄積と不均一性を防ぎます。この装置は、高純度ガス（HPG）、原子ビーム源（ABS）、電子サイクロトロン共鳴（ECR）源など、さまざまな蒸着源で簡単に構成でき、最大限の柔軟性と汎用性のある蒸着プロファイルを可能にします。さらに、K465iには20nmの温度制御精度が組み込まれており、あらゆるプロセスでチャンバー内の高温均一性を保証します。このK465iは、GaN R&Dおよび大量生産に使用することを目的としています。それはユーザーフレンドリーで、多目的で信頼性が高く、あらゆる面で短いサイクル時間と優れた画層均一性を提供します。また、プロセスガスのリアルタイム漏れ検出、機械部品の安全連動ツールなどの安全機能により、K465iは最高水準の安全性と性能を保証します。