中古 VEECO / EMCORE K465 #293768283 を販売中
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ID: 293768283
ヴィンテージ: 2007
MOCVD System
(2) Heat exchangers
(2) Dry pumps
(4) Boxes
(2) Exhaust exchangers
Filter
Frame
Growth chamber
L Chamber
2007 vintage.
VEECO/EMCORE K465炉は、半導体薄膜蒸着および材料特性評価用の多目的なソリッドソース分子ビームエピタキシー（MBE）プラットフォームです。この装置は、フォトニック集積回路やレーザダイオードなどの先進的な化合物半導体デバイスの研究開発のために設計されています。VEECO K465は、単一のソースを持つ標準システムとして、または2つ以上のエフュージョンセルを備えた高度なプラットフォームとして、またマスフローコントローラ、ガス供給ユニット、ベント/パージモジュールなどのサポートコンポーネントとして構成できます。標準バージョンは14インチ×14インチの小型チャンバーサイズで、最大圧力は1E-7 Torrです。チャンバー部品は、超高真空アプリケーションで優れた性能を確保するために、ステンレス鋼とUHVグレードのCFフランジから構築されています。チャンバーの底は分子フラックスを含んでおり、サンプルへのガス対流を低減します。発熱体はセラミック並びステンレス鋼から成っている埋め込む要素に基づいており、25°Cから1000°Cに温度較差があります。チャンバーは、サンプルローディングのための利用可能なスペースを最大限に活用するように設計されており、自動化された4位置サンプルローダーとカルーセルマシンが装備されています。EMCORE K465プラットフォームは、異なる反応性ガスを処理するように設計されており、VEECO独自のガス配送ツールを使用して、安全で正確なガス制御と流れを行うことができます。デュアルソースオプションを使用すると、複数のソースマテリアルを選択して、コデポジションモードとスプリットモード用に個別に設定できます。プロセス制御システムは、自動化された最適化と監視のために設計されています。独自の質量流量と部分圧力制御（MPPC）アセットは、正確な制御を提供します。これにより、プロセス速度の安定性が確保され、頻繁な校正が不要になります。このモデルには、光学特性および半導体エピタキシャル層の成長を測定するための光学およびX線診断機能も装備されています。この光学レーザー装置は、ALD（原子層成膜）膜の厚さと屈折率を測定するための空間分解能とスペクトル分析を向上させています。RamanやVUV放出分光法のような他の高度な技術は、分子層の堆積の本質的な研究のために利用可能です。システムの安全性は空気および酸素の汚染を避けるために窒素のbackfill単位によって保障されます。K465原子炉は、ウエハー、セラミックプレート、プリートコンテナなど、さまざまな基板に対応するために構築されています。MBEツールは信頼性が高く、効率的で、幅広い化合物半導体材料用途に優れた性能を提供します。
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