中古 VEECO / EMCORE D300 #9250874 を販売中

VEECO/EMCORE D300は、RF誘導結合プラズマ（ICP）原子炉です。高品質で高純度のポリシリコン薄膜を作成するために使用されるツールです。8インチと12インチの両方のウェーハで垂直または水平に動作するように作られており、フットプリントが小さいため、工業規模の生産に適しています。VEECO D300は、ICPを利用して、原子炉室内で高度にイオン化された点源プラズマを生成します。ICPは、プラズマ内部の電流を誘導する高周波場を生成し、イオン化された高点源を生成することによってプラズマを生成します。高イオン化された点源プラズマは、原子炉室内の高温、電子密度、均一性を促進するため、重要です。EMCORE D300には3つの異なるサセプターが装備されています。これらは、ウェーハの取り付け、温度調節、プラズマ露出時のシリコンのエッチングを防ぐために使用されます。D300のクローズドループ制御装置は、正確なガス流量制御を提供し、ユーザーは正確に流量を調整し、異なるポリシリコンフィルムのカスタムレシピを作成することができます。VEECO/EMCORE D300には、ポリシリコン過程で発生する副産物の影響を最小限に抑えるためのガス中和システムも装備されています。原子炉は、均一な温度、電子密度、およびプロセスチェーンとレシピを促進するように設計されています。VEECO D300は、RFフィールドのより大きな制御を可能にする高度な2 ゾーンRF電源ユニットで構築されています。これらの2つのゾーンは独立して調整することができ、最適な処理のための理想的でバランスの取れた環境を提供します。EMCORE D300はまた、プロセス中にウェーハを囲んで保護する高品質の水晶蒸着チャンバーを備えています。蒸着チャンバーは、均一な蒸着を確保し、ウェーハ上で発生する可能性のある欠陥を最小限に抑えるように設計されています。全体として、D300は高品質で高純度のポリシリコンフィルムを促進する堅牢で効率的なICP炉を提供します。クローズドループ制御機と2 ゾーンRF電源供給ツールは、産業アプリケーションに信頼性と耐久性の高い性能を提供します。その水晶蒸着チャンバーは均一な蒸着を保証し、ウェーハ上で発生する可能性のある欠陥を最小限に抑えるのに役立ちます。