中古 VEECO / DEKTAK K 465 I #9410042 を販売中
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ID: 9410042
ヴィンテージ: 2010
MOCVD System
(2) EBARA ESA25-D Dry pumps
(2) LYTRON LCS7289G1 Chillers
Hydride lines: NH3, SiH4
MKS MFC Type
Alkyl lines:
Lines / SCCM
TMIn 1 / 1000 sccm
TMIn 2 / 200 sccm
TMGa 1 / 1000 sccm
TMGa 2 / 200 sccm+1000 sccm
TEGa / 1000 sccm
TMAl / 500 sccm+1000 sccm
Cp2Mg / 1000 sccm+2600 sccm
DEZn / 500 sccm+1000 sccm
RAUDA Baths:
RE235
(5) RE215
Power supply: 380 VAC, 3-Phase
2010 vintage.
VEECO/DEKTAK K 465 Iは、基板の完全な処理のために特別に設計された原子炉装置です。堆積パラメータを優れた制御を提供し、広範囲にわたって効率的なステップカバレッジと均一なフィルム蒸着を可能にします。48mm×48mmの作業領域で作業しながら、優れた基板均一性と優れた操作性能を提供します。この原子炉は、ナノ粒子スケールで単層、多層および合金膜を成長させるのに理想的です。このシステムは、半導体、研究、および一般的な実験室のアプリケーションを含む幅広い産業のニーズに対応するように設計されています。物理蒸着（PVD）、低温酸化物蒸着（LTO）、化学蒸着（CVD）などのプロセスに使用できます。また、さまざまな酸化物および窒化物プロファイルをシミュレートする機能も備えています。この原子炉には、ベースプレートとサンプルホルダー、石英ビューポート、空間分布ポート、シャッター、真空ユニット、排気バルブ、成長率モニター、サンプルホルダー電源、冷却ファンが含まれています。これらのすべてのコンポーネントは、望ましい結果を達成するために一緒に動作します。さらに、機械は高効率の機械シャッターで設計されており、大気がツールに与える影響を低減し、結果の精度と均一性を向上させることができます。アセットは「、軽いチャンバー」と「強いチャンバー」を備えた2層アプローチに基づいています。「ライトチャンバー」は最も浅いチャンバーであり、高いチャンバー圧力を持ち、低成長率で均一で制御されたバッチ処理を可能にします。「強いチャンバー」は、堆積プロセスの制御レベルを高め、層の均一性を可能にします。複数の成長率と異なるチャンバー構成を使用することで、ステップカバレッジ、均一性、およびフィルム品質で優れた結果を得ることができます。VEECO K 465 Iリアクターはサンプルホルダー電源でも設計されており、温度と成長時間を正確に制御できます。この装置はマルチゾーン制御インタフェースを備えており、堆積パラメータを正確に操作できます。さらに、システムは、マシンとそのコンポーネントの簡単なトラブルシューティングを可能にするオンボード診断ユニットで設計されています。全体として、DEKTAK K465Iは、幅広い産業や用途のニーズを満たすように設計された洗練された先進的な原子炉ツールです。基板加工に優れた制御を提供し、優れた均一性と性能を保証します。この資産は、ステップカバレッジと均一なフィルム成膜で高品質の結果を提供することができ、産業要件の最も厳格な要件を満たすように設計されています。
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